1
ستاد ویژه توسعه فناوری نانو Iran Nanotechnology Initiative Council بستن
  • ستاد ویژه توسعه فناوری نانو

  • بانک اطلاعات شاخص های فناوری نانو

  • سایت جشنواره فناوری نانو

  • سیستم جامع آموزش فناوری نانو

  • شبکه آزمایشگاهی فناوری نانو

  • موسسه خدمات فناوری تا بازار

  • کمیته استانداردسازی فناوری نانو

  • پایگاه اشتغال فناوری نانو

  • کمیته نانو فناوری وزارت بهداشت

  • جشنواره برترین ها

  • مجمع بین المللی اقتصاد نانو

  • اکو نانو

  • پایگاه اطلاع رسانی محصولات فناوری نانو ایران

  • شبکه ایمنی نانو

  • همایش ایمنی در نانو

  • گالری چند رسانه ای نانو

  • تجهیزات فناوری نانو

  • صنعت و بازار

  • باشگاه نانو

به‌اشتراک‌گذاری فناوری دو شرکت برای رسیدن به محصولی تازه

موضوع : صنعت و بازار کلمات کلیدی : لیتوگرافی الکترونی - چاپ مدار الکتریکی - همکاری مشترک تاریخ خبر : 1396/07/27 تعداد بازدید : 485

EVG و شرکت سوئیس‌لیتو (SwissLitto) با یک همکاری مشترک، اقدام به ارائه راهکار تازه‌ای به‌منظور تولید نانوساختارهای یک نانومتری روی سطح با استفاده از لیتوگرافی کردند.

گروه صنعتی EV (EVG) یکی از تولیدکنندگان ادوات و تجهیزات لیتوگرافی برای استفاده در بازار نیمه‌هادی، فناوری‌ نانو و MEMS است. این گروه همکاری مشترکی با شرکت سوئیس‌لیتو (SwissLitto) آغاز کرده است تا به صورت مشترک روی ساخت ابزارهای نانولیتوگرافی جدید کار کنند. این گروه اخیراً اعلام کرده که یک راهکار مشترک برای تولید ساختارهای سه بعدی در مقیاس یک نانومتری ارائه کرده‌اند.
این دستاورد ماحصل پروژه‌ای به نام Single Nanometer Manufacturing for Beyond CMOS Devices (SNM) است که توسط اتحادیه اروپا حمایت مالی شده است. در این پروژه از فناوری لیتوگرافی پیمایشی روبشی گرمایی NanoFrazor برای تولید الگوهای اصلی استفاده می‌شود، الگوهایی که دارای ساختار سه بعدی برای لیتوگرافی نانوچاپ هستند. در قدم بعد سامانه HERCILES NIR گروه EV و فناوری AmartNIL برای نسخه‌برداری از این ساختارها در حجم انبوه مورد استفاده قرار می‌گیرد.
EVG و سوئیس‌لیتو قصد دارند راهکار مشترکی برای عناصر نوری پراش پراکنده و دیگر قطعات نوری حوزه فتونیک و مخابرات اطلاعاتی ارائه کنند. از این راهکار می‌توان در حوزه‌هایی نظیر زیست‌فناوری، نانوسیال و فناوری‌ نانو استفاده کرد.
در این پروژه از سامانه NanoFrazor برای ایجاد الگوهای چاپی استفاده خواهد شد. در روش‌های رایج، از پرتو الکترونی و لیتوگرافی مقیاس خاکستری استفاده می‌شود. در این فناوری جدید امکان تولید ساختارهای سه بعدی با دقت بسیار بالا وجود دارد.
از سامانه NIL گروه EVG نیز برای ایجاد الگوهای کاری به‌منظور استفاده در فرآیند تولید استفاده خواهد شد تا با قیمت کم و کارایی بالا بتوان محصولات را در حجم انبوه تولید نمود.
توماس گلینسنر از مدیران EVG می‌گوید: «فناوری NanoFrazor شرکت سوئیس‌لیتو مکمل فناوری SmartNIL ماست. با ترکیب این دو فناوری، راهکاری جدیدی به‌دست آمده که با استفاده از آن می‌توان فرصت‌های تازه‌ای برای دو شرکت ایجاد کرد و مشتریان بیشتری را در بازار به‌دست آورد.»
لیتوگرافی پیمایشی روبشی گرمایی توسط شرکت IBM طراحی شده که شرکت سوئیس‌لیتو آن را خریداری کرده است. سوئیس‌لیتو در سال 2012 با هدف فعالیت در بخش نانوساخت تأسیس شد.