1
ستاد ویژه توسعه فناوری نانو Iran Nanotechnology Initiative Council بستن
  • ستاد ویژه توسعه فناوری نانو

  • بانک اطلاعات شاخص های فناوری نانو

  • سایت جشنواره فناوری نانو

  • سیستم جامع آموزش فناوری نانو

  • شبکه آزمایشگاهی فناوری نانو

  • موسسه خدمات فناوری تا بازار

  • کمیته استانداردسازی فناوری نانو

  • پایگاه اشتغال فناوری نانو

  • کمیته نانو فناوری وزارت بهداشت

  • جشنواره برترین ها

  • مجمع بین المللی اقتصاد نانو

  • اکو نانو

  • پایگاه اطلاع رسانی محصولات فناوری نانو ایران

  • شبکه ایمنی نانو

  • همایش ایمنی در نانو

  • گالری چند رسانه ای نانو

  • تجهیزات فناوری نانو

  • صنعت و بازار

  • باشگاه نانو

استفاده از لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای تولید فیلم TiN

موضوع : صنعت و بازار کلمات کلیدی : همکاری مشترک - لایه‌ نشانی اتمی (ALD) - فیلم‌ نازک - اپتوالکترونیک تاریخ خبر : 1397/07/22 تعداد بازدید : 148

شرکت پیکوسان و مؤسسه‌ی سوژو با همکاری مشترک موفق به ارائه‌ی فناوری لایه‌نشانی برای تولید فیلم‌های لایه‌نازک از جنس TiN با کیفیت بالا شدند. این فیلم‌ها که با فناوری لایه‌نشانی اتمی ساخته شده‌اند، در صنعت میکروالکترونیک و اپتوالکترونیک قابل استفاده است.

همکاری مشترک شرکت فنلاندی پیکوسان (Picosun) و سوژو (Suzhou) منجر به دستاورد جدیدی در صنعت لایه‌نشانی شد. شرکت پیکوسان تولیدکننده‌ی تجهیزات لایه‌نشانی اتمی (ALD) است که اخیراً با همکاری مؤسسه‌ی فناوری‌ نانو و نانوبیونیک سوژو موفق به لایه‌نشانی نیترید تانتالیم با کیفیت بالا با استفاده از فناوری لایه‌نشانی اتمی پلاسمای شرکت پیکوسان شده‌اند.

در صنعت تولید قطعات میکروالکترونیک، تماس اهمی میان لایه‌های فلزی و نیمه‌هادی اهمیت زیادی در طول عمر و عملکرد محصول نهایی دارد. استفاده از فلز خالص نظیر تانتالیم مشکلاتی دارد؛ به همین دلیل این ماده روی زیرلایه‌ی نیترید تانتالیم قرار داده می‌شود. هدایت الکتریکی و پایداری حرارتی TiN بیشتر از تانتالیم خالص است، اما تولید فیلم‌های با کیفیت بالا از جنس TiN بسیار دشوار است.

به همین دلیل فناوری لایه‌نشانی اتمی پلاسمای شرکت پیکوسان برای ایجاد چنین لایه‌ای به‌کار گرفته شده‌است. به‌دلیل فاصله‌ی زیاد منبع از زیرلایه، بمباران یونی مخرب نبوده و کار در دمای پایین انجام می‌شود؛ بنابراین، آسیب کمتری به زیرلایه وارد می‌شود. انتخاب پیش‌ماده و گاز پلاسمای مناسب در نتیجه‌ی نهایی فرآیند تأثیر به سزایی دارد.

ادوین وو، مدیرعامل بخش آسیایی شرکت پیکوسان، می‌گوید: «ما بسیار خوشحالیم که لایه‌ی TiN بسیار عالی برای استفاده در صنعت میکروالکترونیک و اپنوالکترونیک ایجاد کردیم. TiN ماده‌ای بسیار مهم در صنعت الکترونیک است و شرکت پیکوسان رهیافت ویژه‌ای برای تولید ارزان قیمت این فیلم دارد. ما قصد داریم با توسعه‌ی بیشتر این فناوری بتوانیم به نیاز صنعت پاسخ دهیم.»

سونان دینگ از آزمایشگاه Nano-X سوژو می‌گوید: «برای ما باعث خرسندی است که با شرکت پیکوسان کار می‌کنیم. کیفیت تجهیزات لایه‌نشانی این شرکت بالا بوده و ما را قادر می‌سازد تا فرآیندهای جدیدی با همکاری این شرکت ارائه دهیم. از نتایج این همکاری مشترک می‌توان در صنایع دیگر نیز استفاده کرد.»

پیکوسان و سوژو همکاری خود را از سال 2017 آغاز کرده‌اند. هدف از این همکاری مشترک، توسعه‌ی قطعات جدید برای استفاده در صنعت است.