پیشرفت قابل توجه در صنعت لیتوگرافی

شرکت آلمانی Extreme در پی تلاش برای دست‌یابی به لیتوگرافی ناحیة دور ماوراء بنفش (EUV) جهت تولید تراشه، ادعا کرده است که به هدف خود در بهبود بخشیدن توان خروجی منبع نور EUV نائل شده است.

شرکت آلمانی Extreme در پی تلاش برای دست‌یابی به لیتوگرافی ناحیة دور ماوراء بنفش (EUV) جهت تولید تراشه، ادعا کرده است که به هدف خود در بهبود بخشیدن توان خروجی منبع نور EUV نائل شده است.
این شرکت ادعا می‌کن