عرضه فناوری جدید لایه نشانی از فاز بخار

گروه او ای ام (OEM) یکی از تولیدکنندگان بزرگ تجهیزات برای صنعت نیمه‌هادی اخیرا اعلام کرده است که ابزار جدیدی موسوم به MRC® Eclipse™ را برای تولید حسگر و MEMS به بازار عرضه کرده است.
این فرآیند جدید می‌تواند لایه‌ای نازک از جنس مواد سرامیکی روی سطح ایجاد کند که با استفاده از آن حسگرهای شیمیایی و گازی ساخته می‌شود. همچنین این ابزار اکسید آلومینیوم را روی سطوح غیرفعال ایجاد کرده و امکان لایه نشانی فیلم‌های فلزی کمپلکس روی سطح فراهم می‌شود.
این فرآیند PVD جدید از فناوری کنترل دمای ویفر جدید گروه OEM بهره‌مند است. موج جدیدی از کاربردهای حسگرهای گازی و شیمیایی برای ادوات MEMS ایجاد شده که در آستانه تجاری‌سازی است. چیتینگ لین از دانشگاه ملی تایوان در سخنرانی اخیر خود در نشست سمیکون تایوان در مورد سیستم‌های اینترنت برای همه چیز تاکید زیادی روی فناوری‌های MEMS داشته است.
شرکت ای دی ت‌ایکس (IDTechEx) که در حوزه بازار فعالیت دارد پیش بینی کرده که حسگرهای شیمیایی رشد قابل توجهی در آینده خواهند داشت به طوری که تا سال 2020 به جز لاینفک حسگرهای پوشیدنی تبدیل خواهند شد و رشد آن بین سال‌های 2015 تا 2025 قریب 32 درصد است.
مارک مک نیکولاس از متخصصان شرکت OEM می‌گوید: «راهبرد MRC Eclipse طی سی سال گذشته به جریان اصلی در شرکت‌های نیمه‌هادی جهان تبدیل شده است. با این فناوری جدید می‌توان از این روش برای ساخت حسگرها و ادوات مختلف MEMS استفاده کرد.»
MRC Eclipse یک فرآیند PVD بوده که به صورت ویژه توسط گروه OEM ارائه شده است. این روش امکان ایجاد لایه نازک روی ویفرهای 100 و 200 میلیمتری را فراهم می‌کند.
گروه OEM یکی از تولیدکنندگان ادوات برای صنعت نیمه‌هادی بوده که فناوری‌های پتنت شده ویژه‌ای دارد. از جمله نام‌های تجاری این شرکت می‌توان به P5000™, Tegal™ Etch, Sputtered Films® Endeavor™, MRC® Eclipse™, AGHeatpulse®, Varian® Sunset™, Lam® AutoEtch™ and SEMITOOL® Manual Batch, Automated Batch و Single Wafer Equinox™ اشاره کرد.