همکاری مشترک در بخش مترولوژی و الگودهی نانومقیاس سطح

جی‌اف‌سولوشنز (GF Machining Solutions) و سنسوفار مترولوژی (Sensofar Metrology) توافق‌نامه همکاری به امضاء رساندند که در آن شرکت سنسوفار، فناوری مترولوژی سطحی خود موسوم به S neox را در اختیار شرکت جی‌اف قرار دهد.
استفاده از این فناوری می‌تواند برای توسعه روش‌های الگودهی نانومقیاس سطحی مناسب باشد، روش‌هایی که برای تولید سطوح ویژه با کارکرد از پیش تعیین شده قابل استفاده هستند.
برای تولید این سطوح دارای الگوهای نانومقیاس از فناوری‌های میکرو و نانوساخت نظیر لیزر پالسی بسیار کوتاه و EDM استفاده می‌شود.
این سامانه مترولوژی جدید به شرکت جی‌اف اجازه می‌دهد تا الگوهای سطحی طبیعی را به صورت معکوس مهندسی کند تا به مقیاس نانومتری برسد. با استفاده از این فناوری، این شرکت می‌تواند محصولات مختلفی حاوی الگوهای مصنوعی را تولید کند
در پلتفورم S neox ازسه روش‌ اندازه‌گیری مکمل یعنی کنفوکال، تداخل‌سنجی و اختلاف فوکوس (FV) استفاده شده است. تمامی این روش‌ها روی یک حسگر منفرد قرار داده شده است. با این کار، کاربر می‌تواند راهبردهای میکرو و نانوالگودهی را مورد استفاده قرار دهد و از آن برای ساختارها و مقیاس‌های مختلف استفاده کند.
گزارش‌های اندازه‌گیری با پارامترهای الگوی سطحی سه بعدی تعریف شده در استاندارد ISO 25178 ارائه می‌شود. این بسته تهیه شده توسط شرکت جی‌اف، شامل نرم‌افزار و سخت‌افزار متناسب با نیاز مشتری است. شرکت جی‌اف پیش از این از سامانه مترولوژی FV 3D استفاده می‌کرد که انتظار می‌رود این سامانه بتواند راهبردهای الگودهی سطحی پیشرفته‌تری را ارائه دهد.
این دو شرکت با مشارکت یکدیگر عملکرد این سامانه مترولوژی جدید را در قالب دوره‌های آموزشی ثابت خواهند کرد. این دوره‌ها در حوزه‌های خودروسازی، اپتیک، پزشکی، میکرو ماشین‌کاری و نیمه‌هادی خواهد بود. علاوه‌براین، سامانه‌های شرکت سنسوفار که توسط شرکت جی‌اف تأیید شده‌اند، اگر از طریق این همکاری راهبرد به فروش برسند، از طریق شبکه جهانی توزیع و فروش شرکت سنسوفار تحویل آنها خواهد شد.