همکاری سه جانبه برای توسعه فناوری نیترید گالیم با استفاده از ALD

پیکوسان (Picosun) یکی از شرکت‌های پیشرو در حوزه لایه‌نشانی اتمی در مقیاس صنعتی است. این شرکت فنلاندی اخیراً همکاری مشترکی با دانشگاه چیائو تنگ و شرکت اتم سمیکون در تایون آغاز کرده است. این همکاری سه جانبه با هدف بهبود ادوات نیترید گالیم انجام می‌شود. قرار است برای این کار از فناوری لایه‌نشانی اتمی شرکت پیکوسان استفاده شود.
این همکاری مشترک توسط میائوپنگ وو، مدیرعامل شرکت پیکوسان، هوا چونگ کو از مؤسسه مهندسی الکترو اپتیک nctu در سومین کارگاه ALD تایوان اعلام شد.
تقاضا برای فناوری‌های سبز و ادوات الکترونیکی با مصرف انرژی پایین، انگیزه زیادی برای شرکت‌ها ایجاد کرده تا به دنبال فناوری جایگزین برای میکروالکترونیک مبتنی بر سیلیکون باشند. قطعات مبتنی بر نیترید گالیم نظیر ترانزیستورهایی که حرکت الکترون بسیار بالایی دارند (HEMT)، پتانسیل بالایی در این مسیر دارند. کارایی این ادوات بالا بوده، انرژی مصرفی کمی داشته، پاسخ سریع و اعتماد بالایی روی عملکرد آن‌ها وجود دارد. بنابراین با استفاده از این فناوری می‌توان مدارهای هوشمند جامع با ابعاد بسیار کوچک طراحی کرد. این فناوری برای سامانه مخابراتی بی‌سیم و حسگرها نیز قابل استفاده است. قطعات نیترید گالیم در حال حاضر در آمپلی‌فایرهای رادارها استفاده می‌شود. از دیگر کاربردهای این فناوری می‌توان به تجهیزات اینترنت اشیاء، سامانه‌های حمل و نقل الکتریکی و تجهیزات مبدل انرژی اشاره کرد.
این همکاری سه جانبه از فعالیت‌های تولیدی با استفاده از فناوری نیترید گالیم پشتیبانی می‌کند. سامانه‌های لایه نشانی اتمی هوشمند می‌تواند عملکرد و اعتماد به ادوات را بهبود دهد. نتیجه توسعه فناوری لایه‌نشانی می‌تواند زمان رسیدن محصولات به بازار را کاهش دهد.
چانگ می‌گوید: «پیکوسان از شرکای قدیمی ما بوده و همکاری دراز مدتی با این شرکت در بخش لایه‌نشانی اتمی داریم. ما از فناوری PICOSUN ALD این شرکت طی سال‌های گذشته استفاده کرده‌ایم تا فناوری نیترید گالیم را توسعه دهیم. تایوان مرکز تولید نیمه‌هادی در جهان است. فناوری این شرکت از فعالیت‌های تحقیق و توسعه ما پشتیبانی می‌کند.»