محققان دانشگاه ایالتی بوفالو در نیویورک با همکاری مؤسسه تحقیقات الکترونیک و ارتباطات راه دور کره با استفاده از روش خودآرایی موفق به ساخت نانوپل‌هایی از جنس سیلیسید نیکل در عرض شیارهای موجود در ویفر سیلیکونی شدند. این دستاورد نهایتاً برای ایجاد اتصالات
