دستیابی به ابزار لیتوگرافی پیشرفته برای ساخت IC

شرکت SEMATECH ابزاری کلیدی را برای توسعه لیتوگرافی غوطه‌ور جهت تولید نیمه‌هادی‌های پیشرفته ۴۵ نانومتری توسعه داده است. این ابزار، یک سیستم پرتودهی غوطه‌ورسازی تداخلی از سیستم‌های Amphibian می‌باشد و در مرکز فناوری غوطه‌ور‌سازی (iTC) مستقر خواهد شد. این مرکز بر روی توسعه لیتوگرافی غوطه‌ورسازی در زمینه راهکارهای مبتنی بر آب خالص تمرکز دارد.