اخیراً محققانی از دانشگاه میشیگان توانسته‌ا‌‌ند با حل مشکلِ خروجی کمِ لیتوگرافی نانونقش(NIL)، گام مهمی در جهت تجاری‌سازی این فناوری بردارند. آنها روشی به نام لیتوگرافی نانونقش(R2RNIL) ابداع کرده‌اند که &#۱۷۷۸&#۱۷۷۶ برابر سریع‌تر از روش‌های نانونقش معمولی است.
گامی به‌سوی نانولیتوگرافی پرسرعت
اخیراً محققانی از دانشگاه میشیگان توانسته‌ا‌‌ند با حل مشکلِ خروجی کمِ لیتوگرافی نانونقش(Nanoimprint lithography or NIL)، گام مهمی در جهت تجاری‌سازی این فناوری بردارند. آنها روشی به نام لیتوگرافی نانونقش(R2RNIL) ابداع کرده‌اند که ۲۰ برابر سریع‌تر از روش‌های نانونقش معمولی است.
لیتوگرافی نانونقش روشی برای الگودهی نانومقیاسِ زیرلایه‌های انعطاف‌پذیرِ مورد استفاده در فوتونیک، الکترونیک، فناوری زیستی و ابزارهای انرژی تجدیدپذیر است. تاکنون مقدار کم محصول در این روش مانعی در برابر تجاری‌سازی دائمی آن بوده‌است. جی گو، یکی از اعضای گروه مذکور، در این باره می‌گوید:«تحقیق ما به یکی از گلوگاه‌های موجود در زمینه تولید نانوساختارها در بسیاری از کاربردهای عملی مربوط است و می‌تواند لیتوگرافی نانومقیاس را به یک کارایی کاملاً جدید با خروجی بسیار بالاتر ارتقا دهد.»
درR2RNIL، بر خلاف روش‌های معمولی NIL، از یک قالب به شکل غلتک استفاده می‌شود و جداسازی نمونه از قالب به شیوه «پوست‌اندازی» انجام می‌گیرد. در این شیوه، برای نقش‌اندازی بر روی یک سطح با مساحت بالا به نیروی بسیار کمتری نیاز است و امکان ایجاد عیوب کاهش می‌یابد.
گو و همکارش آهن (Ahn) برای نشان دادن بازدهی روش خود، از R2RNIL برای چاپ پیوسته الگوهای پولیمری ۷۰ نانومتری بر روی یک نوار انعطاف‌پذیر استفاده کردند. انجام چنین کاری با استفاده از روش‌های معمولی NIL بسیار مشکل است.
جان روجرز از دانشگاه ایلینویز می‌گوید:«ایده R2RNIL، به‌دلیل قابلیت بالقوه این روش برای استفاده در کاربردهای ارزان‌قیمت و انبوه، قطعاً توجه همگان را به خود جلب می‌کند. نتایج به دست‌آمده نشان می‌دهد که این روش پیچیده‌ترین شکل لیتوگرافی نانونقش است.» گو قصد دارد تا از این روش در چاپ منسوجات پلاستیکی با مساحت سطح بالا و چاپ بر روی زیرلایه‌های صلب؛ مانند شیشه استفاده کند.
نتایج این تحقیق در نشریه .Adv. Mater به چاپ رسیده‌است.
