ابداع یک روش لیتوگرافی جدید

قابلیت ایجاد الگوهای ظریف و ریز ضرورتی انکارناپذیر در ساخت تراشه‌های رایانه‌ای و بسیاری دیگر از کاربردهای جاری و بالقوه‌ی فناوری نانو به شمار می‌آید. به این منظور همینک از فرایند بسیار پرکاربرد فوتولیتوگرافی استفاده می‌شود؛ اما عیب این روش در آن است که انجام آن، مستلزم استفاده از پرتوهای فرابنفش پرهزینه است که به‌دلیل رابطه‌ی مستقیم طول موج نور با اندازه‌ی الگوهای ایجادشده، استفاده از آن چندان آسان نیست.

به گفته‌ی پروفسور جان فورکاس، این روش می‌تواند منجر به ساختارهای ریزی با ابعاد یک بیستم طول موج نور مورد استفاده شود که بهبود قابل ملاحظه‌ای را در فرایندهای نانوساختار ایجاد می‌کند.

در این روش از دو چشمه‌ی لیزری آبی (یکی با تابش دائمی و دیگری چشمک‌زن) استفاد می‌شود که از اولی برای سفت کردن ماده‌ی اولیه و از دیگری برای حکاکی آن استفاده می‌شود. لیتوگرافی RAPID، با توجه به روشن بودن مداوم یکی از دو نور لیزری و اینکه دیگر نیازی به کنترل فاصله‌ی زمانی موجود میان پالس‌های دو لیزر وجود ندارد، از کاربری آسانی برخوردار بوده، تا آنجا که محققان توانسته‌اند به کمک آن، الگوهایی تا ۲۵۰۰ بار کوچک‌تر از ابعاد تار موی انسان را ایجاد نمایند.

پیش‌بینی می‌شود‌ این روش کاربردهای فراوانی در حوزه‌های مختلفی از قبیل ابزارهای الکترونیکی، اپتیکی و زیست پزشکی بیابد. هم‌اکنون فوراکاس و همکارانش در حال بررسی یافتن راهی برای بهبود و ارتقای این روش هستند که در صورت تحقق این امر حتی می‌‌توان الگوهایی در حد نصف اندازه‌ی الگوهای کنونی ایجاد نمود. گفتنی است گزارشی از این تحقیق در شماره‌ی ۹ آوریل ۲۰۰۹ نشریه‌ی Science Express به چاپ رسیده‌‌است.