تهیه پوشش‌های نانوفتوکاتالیستی برای حذف آلودگی‌های هوا

 محققان پژوهشگاه مواد و انرژی، موفق به تولید پوشش‌ نانوفتوکاتالیستی با
توانایی بالا در حذف آلودگی‌های هوا شدند.

دکتر مریم‌السادات بزرگ‌تبار، محقق پژوهشگاه مواد و انرژی، به کمک فرایند پاشش
حرارتی HVOF، توانسته‌است پوشش نانوساختار TiO₂ را با فعالیت فتوکاتالیستی بالا
برای حذف آلودگی‌های هوا تهیه کند.

درصد آناتاز باقیمانده در این نانوپوشش، حدود ۳ برابر کارهای مشابه است. کنترل
استحاله آناتاز به روتیل در فرایند پاشش با شناخت و کنترل پارامترهای پاشش که سبب
ایجاد پوششی با درصد فاز آناتاز بالاتر و فعالیت فتوکاتالیستی بالا گردیده‌است از
نقاط قوت اصلی این کار پژوهشی است.

فرایندهای پاشش حرارتی از فرایندهای پیشرفته تهیه پوشش‌های فلزی، سرامیکی و سرمتی
است. پوشش‌های تهیه شده با این روش دارای خواص ویژه‌ای همچون استحکام چسبندگی بالا،
یکنواختی بالا، سرعت پوشش‌دهی بالا هستند. فرایند پاشش HVOF، پیشرفته‌ترین فرایند
پاشش حرارتی ‌است که در آن ذرات مواد اولیه، پس از ذوب یا ذوب نسبی شدن، با سرعت
بسیار بالایی( ۱۲۰۰ m/s ) به سمت زیرلایه شتاب داده می‌شوند و پس از برخورد بر
زیرلایه، پوشش تشکیل می گردد.

جزئیات این کار پژوهشی -که با همکاری دکتر محمدرضا رحیمی‌پور و دکتر مهدی صالحی در
پژوهشگاه مواد و انرژی و شهرک علمی و تحقیقاتی اصفهان- شرکت پودرافشان انجام شده-
در مجله‌ی Modern Physics Letters B (جلد ۲۴، صفحات ۲۵۵- ۲۴۷، سال ۲۰۱۰) منتشر شده‌است.