با توسعه یک روش ترسیب بخار شیمیایی جدید بوسیله محققان در کالیفرنیا، ساخت افزارههای گرافنی آسان میشود. همچنین میتوان از این روش جدید که شامل رشد مستقیم گرافن روی بسترهای دیالکتریک است، برای مهندسی ریختشناسی سطحی این ماده و کنترل نانوساختارش استفاده کرد.
![](https://news.nano.ir/wp-content/uploads/2010/6/9de02fe31c3d4fbdb078d60b6e9732bf.jpg)
ساخت افزارههای گرافنی آسان میشود
با توسعه یک روش ترسیب بخار شیمیایی جدید بوسیله محققان در کالیفرنیا، ساخت افزارههای |
|
|
(a) ابتدا یک لایهی نازک مس (نارنجی) روی سطح دیالکتریک (کوارتز- خاکستری) تبخیر |
|
این روش که بوسیله یوگانک ژانگ از آزمایشگاه ملی برکلی لاورنس و همکارانش این محققان از روش ترسیب بخار شیمیایی (CVD) که بطور گسترده در صنعت نیمهرسانا این روش بهتر از بسیاری از روشهای دیگر برای تولید گرافن از قبیل تراشیدن زانگ توضیح میدهد که تولید گرافنی با مساحت بزرگی(۱۰ میکرومتر مربع) روی این محققان اکنون طرحهایی برای بهبود کیفیت این فیلمهای نازک گرافنی نتایج این تحقیق در مجلهی Nano Letters منتشر شده است.
|