لیتوگرافی تداخلی لیزری می تواند برای ایجاد الگوهای سطحی نانومقیاس با هزینه ی
بسیار کم مورد استفاده قرار گیرد. این روش از سوی محققان اروپایی در حال بررسی است
و پیشرفت هایی نیز حاصل گردیده است.
مدت هاست محققان اروپایی درصدد بیرون کشیدن فناوری ساخت مواد نانومقیاس از
آزمایشگاه و وارد کردن آن به دنیای واقعی هستند. آنها همچنین به دنبال کاهش هزینه
های تولید این ادوات بوده اند.
لیتوگرافی تداخلی یک روش الگودهی سطح است که توجه بسیاری از آزمایشگاه ها را به خود
جلب کرده است؛ اما پروژه ی DELILA، این روش را از آزمایشگاه بیرون آورده و استفاده
در مقیاس تجاری آن را به اثبات رسانده است. این فناوری می تواند موج دوم فناوری
نانو در سه سال آینده باشد.
لیتوگرافی تداخلی لیزری با جدا کردن یک اشعه می تواند الگوهایی را روی سطح اعمال
کند. پرتوهای جداشده مجدداً با هم ترکیب می شوند. سرعت تولید بالای این روش موجب
شده که لیتوگرافی تداخلی لیزری مورد توجه همگان قرار گیرد. از مزایای دیگر این روش،
هزینه های پایین آن است؛ به طوری که در روش های مرسوم هزینه ی تولید میلیون ها یورو
است، این در حالی است که پروژه ی DELILA هزینه ی آن را به چند صد هزار یورو کاهش می
دهد.
DELILA مخفف عبارت «توسعه ی فناوری لیتوگرافی ساخت نانومقیاس با استفاده از تداخل
اشعه ی لیزر» است که می توان از آن در تولید نانوساختارهای دو و سه بعدی استفاده
کرد. این روش برای تولید دستگاه های نانوالکترونیک و نانوفتونیک و همچنین ادوات
میکرو و نانوسیالی مناسب است.
با DELILA امکان ایجاد مستقیم ساختارهای ابعاد ۳۰ نانومتر برای اولین بار امکان
پذیر شد، همچنین امکان اصلاح نانوساختارهایی تا ۵ نانومتر وجود دارد. منظور از
ایجاد مستقیم همانا استفاده ی مستقیم لیزر روی بستر مورد نظر بدون نیاز به ماسک
نوری است که از روش های استانداردشده ی مرسوم بسیار ارزان تر است.
امکان اصلاح نانوساختارهایی که با کمک DELILA ایجاد شده، اهمیت بسیار زیادی دارد.
با این روش می توان اصلاحات بسیار کوچکی را بر روی ساختارها ایجاد کرد اما دقت آن
برای استفاده ی تجاری هنوز کافی نیست. با این حال می توان امیدوار بود که از DELILA
در آینده برای اصلاحات بسیار دقیق در مقیاس تجاری بتوان استفاده کرد. این مسئله هدف
بعدی این گروه تحقیقاتی است.
محصول این پروژه ۵ پتنت و بیش از ۲۰ مقاله ی علمی است که به نظر می رسد این ارقام
به زودی افزایش یابد.
|