گروهی از محققان آلمانی روش جدیدی برای استفاده از تابش الکترونی متمرکز در تولید نانوساختارهای تمیز آهن بهروش لیتوگرافی ابداع کرده‌اند.
تولید نانوساختارهای فلزی با لیتوگرافی تابش الکترونی
| تولید برخی از نانوساختارها در مقیاس صنعتی انجام شده است، با این حال ساخت کنترل‌شده نانوساختارها با شکل و ترکیب شیمیایی دلخواه همچنان یک چالش در فناوری نانو محسوب می‌شود. به‌‌نظر می‌رسد تابش الکترونی منتشر شده از میکروسکوپ‌های الکترونی می‌تواند ابزار مناسبی برای این کار باشد. با این حال شرایط خاص میکروسکوپ‌های الکترونی استفاده از این تابش‌ها را محدود کرده است. از آنجایی که بسیاری از میکروسکوپ‌های الکترونی در خلأ بالا کار می‌کنند، رسوب‌دهی ناخواسته گازها و همچنین نگهداری نمونه‌ها در این شرایط مشکلاتی را ایجاد می‌کند. حال گروهی از محققان آلمانی روش جدیدی برای استفاده از تابش الکترونی هوبرتوس مارباچ، یکی از محققان Universität Erlangen-Nürnberg می‌گوید: «ما جنبه جدید این کار فعال‌سازی شیمیایی موضعی یا به عبارت دیگر فعال‌سازی |
|
| نقطه آغازین این تحقیق رسوب‌دهی القاشده با تابش الکترونی یا EBID بود که یکی از حالت‌های FEBIP محسوب می‌شود. در این روش با استفاده از یک تابش الکترونی متمرکز، مولکول‌های یک پیش‌ماده که روی سطح جذب شده است به‌‌صورت موضعی تجزیه شده و رسوبات غیرفراری روی سطح ایجاد می‌شود. محققان برای جلوگیری از پیچیدگی‌های ناشی از رسوب‌دهی مولکول‌های گاز، این فرایند را در خلأ بسیار بالا (UHV) انجام دادند. این امر موجب ایجاد رسوباتی با خلوص بسیار بالا گردید. یکی از چالش‌های این فرایند سرعت پایین نوشتن است که شاید بتوان با استفاده جزئیات این تحقیق به صورت آنلاین در Angewandte Chemie International |
