پژوهشگران مهندسی از دانشگاه میشیگان راهی برای بهبود عملکرد مواد فروالکتریک یافتهاند که دارای قابلیت ساخت افزارههای حافظهای با ظرفیت ذخیره بیشتر نسبت به حافظههای مغناطیسی سخت و نیز سرعت نوشتاری سریعتر و طول عمر بلندتر نسبت به حافظههای فلش، میباشد.
تراشههای حافظهای بهتر، در نتیجه یک کشف بنیادی
پژوهشگران مهندسی از دانشگاه میشیگان راهی برای بهبود عملکرد مواد فروالکتریک یافتهاند که دارای قابلیت ساخت افزارههای حافظهای با ظرفیت ذخیره بیشتر نسبت به حافظههای مغناطیسی سخت و نیز سرعت نوشتاری سریعتر و طول عمر بلندتر نسبت به حافظههای فلش، میباشد. در حافظههای فروالکتریک جهت قطبش الکتریکی مولکولها در نقش بیت ۰ و ۱ ژاکنیگ پان و همکارانش از دانشگاه کرنل، دانشگاه ایالت پن، و دانشگاه |
این پژوهشگران برای اولین بار توانستند از قطبش مربوط به یک ماده با لبه- تیز جهت تراشههای حافظهای، در مقیاس اتمی نقشهبرداری کنند. |
پان گفت: “برای تغییر حالت یک حافظه فروالکتریکی شما مجبور هستید که میدان الکتریکی مورد نیاز برای سوئیچ قطبش در یک ناحیه کوچک را تأمین کنید. با ماده ما، دیگر نیازی به چنین عامل هستهزایی نیست. جایگاههای هستهزایی به طور ذاتی در فصلمشترک این ماده وجود دارند.” برای انجام این کار، مهندسان مذکور لایهای از ماده فروالکتریک را روی این پژوهشگران همچنین توانستند از قطبش این ماده با دقت اتمی نقشهبرداری پان گفت: “این نوع نقشهبرداری تاکنون انجام نشده بود. با استفاده از این این پژوهشگران جزئیات نتایج کار تحقیقاتی خود را تحت عنوان “آرایههای |