جدا کردن فیلم از قالب یکی از چالش‌ها در صنعت نانوچاپ است. اخیرا محققان روشی ارائه کرده‌اند که این رهاسازی ساده‌تر انجام می‌شود. در این روش از PDMS، پلی استایرن و فلوروآلکیل سیلان برای ساخت قالب استفاده می‌شود. با این روش آسیب کمتری به فیلم تولید شده وارد می‌شود.
روش ساده و جدیدی برای ایجاد الگوهای نانومقیاس
جدا کردن فیلم از قالب یکی از چالش‌ها در صنعت نانوچاپ است. اخیرا محققان
روشی ارائه کرده‌اند که این رهاسازی ساده‌تر انجام می شود. در این روش از
PDMS، پلی استایرن و فلوروآلکیل سیلان برای ساخت قالب استفاده می‌شود. با
این روش آسیب کمتری به فیلم تولید شده وارد می‌شود.
روش خودآرایی مستقیم بلوک کوپلیمرها یکی از گزینه‌های اصلی برای استفاده در
صنعت نانوالکترونیک است که با آن می‌توان دامنه‌هایی با قدرت تفکیک زیر ۱۰
نانومتر ایجاد کرد. با این روش می‌توان آرایه‌های متناوب از نانوساختارها
را با دانسیته بسیار بالا روی یک سطح ایجاد کرد. با این حال در برخی موارد
این روش یا بسیار زمان‌بر و پیچیده است یا بسیار پرهزینه است.
دیرد اولنیک از مرکز تحقیقات علوم نانو می‌گوید خودآرایی مستقیم بلوک
کوپلیمرها به‌دلیل رهاسازی سریع و ساده فیلم از قالب بسیار مورد توجه
محققان است. استفاده از قالب در فناوری نانوچاپ برای ایجاد الگوهایی
باکیفیت بالا یکی از موانع بزرگ محسوب می‌شود. از آنجایی که قدرت چسبندگی
فیلم چاپ شده و قالب در بیشتر موارد بسیار قوی است بنابراین جداکردن آنها
بسیار دشوار بوده و معمولا موجب وارد شدن آسیب به فیلم می‌شود.
در مقاله‌ای تحت عنوان Sub-10 nm Nanofabrication via Nanoimprint Directed
Self-Assembly of Block Copolymers که در نشریه ACS Nano به چاپ رسیده است، این تیم
تحقیقاتی نشان دادند که بلوک کوپلیمرها می‌توانند با استفاده از یک قالب قابل زدایش
با قابلیت استفاده مجدد، روی سطح بدون الگو تراز شوند. به‌دلیل جریانی که توسط
فرآیند نانوچاپ القا می‌شود، این تراز شدن بسیار سریع رخ می‌دهد. با استفاده از
فرآیند لیتوگرافی نانوچاپ گرمایی که برای سیستم خودآرایی بلوک کوپلیمر طراحی شده
است، این تیم تحقیقاتی مانع از هرگونه الگودهی پیش از موعد مقرر شد.
در تحقیق پیشین این گروه که در قالب مقاله Interface Segregating
Fluoralkyl-Modified Polymers for High-Fidelity Block Copolymer Nanoimprint
Lithography به چاپ رسیده است، برای حل این مشکل از سورفاکتانت استفاده شده است.
سورفاکتانت باعث کاهش چسبندگی دو سطح می‌شود. اما این روش نیز دارای محدودیت‌هایی
از جمله نیاز به آغشته کردن سطح به سورفاکتانت بود.
برای توسعه بیشتر این روش، این گروه روی PDMS، پلی استایرن و فلوروآلکیل سیلان
تحقیق کردند تا در صورت امکان از آنها به‌عنوان قالب بدون نیاز به آغشته‌سازی به
سورفاکتانت استفاده کنند. نتایج نشان داد که PDMS دارای شیار که به سطح قالب اضافه
شود به‌راحتی فیلم را رها می‌کند. PDMS در حین رها کردن فیلم کمترین آسیب را به
فیلم وارد می‌کند. محققان درصدد استفاده از این روش برای تولید الگوهای پیچیده
هستند. بزرگترین چالش پیش روی آنها کنترل آسیب‌های روی الگو است.
