اخیرا روش جدیدی برای تولید نانوساختارها ارائه شده است که با استفاده از آن می‌توان ساختارهای سه بعدی تولید کرد. در این روش از FIB و اچ کردن فتوالکتروشیمیایی استفاده می‌شود.
روش جدیدی برای تولید نانوساختارهای سه بعدی پیچیده
|
محققان یک تیم بین المللی موفق به ارائه روشی برای تولید نانوساختارهای سه بعدی شدند. این کار با استفاده از روش پرتو یون متمرکز (FIB) انجام شده است که در آن بار منفی روی یک سطح نیترید گالیم ایجاد شده و سپس با استفاده از روش فتوالکتروشیمیایی، اچ می‌شود. با این کار می‌توان غشاء‌های بسیار نازک را با کنترل بالا تولید کرد. نیترید گالیم ماده‌ای نیمه‌هادی بوده که دارای باندگپ بالایی است. این ماده |
|
| طرح شماتیکی که نشاندهنده جذب کل نور بوسیله آرایهای از دیسکهای گرافنی است. |
|
یون تیگین‌یانو از دانشگاه صنعتی مولداوی اخیرا روشی برای تولید این غشاءها ارائه کرده است که با استفاده از آن می‌توان شبکه‌ای از ساختارهای نیترید گالیم تولید کرد. این تیم تحقیقاتی دریافته است که پرتوهای فرابنفش می‌تواند برای اچ کردن سطح به‌کار برای تست این روش محققان یک بخش از نمونه نیترید گالیم را در معرض پرتو ۳۰ کیلوولتی همانطور که انتظار می‌رود تابش انرژی بالا موجب می‌شود تا سطح مات شود و در نتیجه از این روش می‌توان برای تولید نانوساختارهای سه بعدی مبتنی بر نیترید گالیم |
