چاپ سه بعدی در مقیاس میکرو

در نمایشگاه بین المللی فوتونیک که در سانفرانسیسکو برگزار شد، شرکت نانوسکریب، انشعابی از موسسه فناوری کارلسروهه، به معرفی سریع‌ترین چاپگر میکرو و نانومقیاس جهان پرداخت. با استفاده از این چاپگر می‌توان اجسام با ابعاد بسیار کوچک، کوچکتر از یک تار مو، را با سرعت و قدرت تفکیک بالا به سرعت ایجاد کرد. این چاپگر بر اساس روش لیتوگرافی کار می‌کند.

در نمایشگاه بین المللی فوتونیک که در سانفرانسیسکو برگزار شد، شرکت نانوسکریب، انشعابی از موسسه فناوری کارلسروهه، به معرفی سریع‌ترین چاپگر میکرو و نانومقیاس جهان پرداخت. با استفاده از این چاپگر می‌توان اجسام با ابعاد بسیار کوچک، کوچکتر از یک تار مو، را با سرعت و قدرت تفکیک بالا به سرعت ایجاد کرد. این چاپگر بر اساس روش لیتوگرافی کار می‌کند.

با روش لیتوگرافی لیزری، سرعت چاپ تا ۱۰۰ برابر افزایش می‌یابد. دلیل این افزایش سرعت، استفاده از سیستم آینه گالو است، این آینه نوعی فناوری است که در برخی ادوات نظیر واحدهای نگارش دی وی دی استفاده می‌شود. انعکاس یک پرتو لیزر با استفاده از این آینه موجب تسریع و تمرکز دقیق لیزر می‌شود.

مارتین هرماتشوایلر می‌گوید ما موفق شدیم در مقیاس میکرومتری چاپ سه بعدی انجام دهیم، این سیستم ماحصل دو دهه تحقیق و تجربه ما در بخش فوتونیک است.

این سیستم چاپ سه بعدی مبتنی بر پلیمریزاسیون فوتون دو بعدی است. این روش همانند متمرکز کردن نور خورشید با عدسی روی کاغذ است که موجب سوختن موضعی کاغذ می‌شود. در این روش لیزر پالسی کوتاه به مواد حساس به نور تابیده می‌شود. این مواد در صورت تابش لیزر حل می‌شوند. بعد از شستشو، بخش نگارش شده به‌صورت نانو و میکروساختار باقی می‌مانند.

با استفاده از این فناوری، می‌توان نانو و میکروساختارهای سه بعدی را به سرعت در مقیاس انبوه ایجاد کرد. در بالاترین قدرت تفکیک، میدان روبش به‌دلیل محدودیت فیزیکی، در حدود ۱۰۰ میکرومتر خواهد بود.