شرکت ادونیرا اینترپرایز (Advenira Enterprises) موفق به ثبت فناوری جدید خود در اداره ثبت پتنت آمریکا شده‌است. این فناوری جدید یک روش پوشش‌دهی ترکیبات نانوکامپوزیتی است.
ثبت پتنت در حوزه نانوپوشش‌های کامپوزیتی
شرکت ادونیرا اینترپرایز (Advenira Enterprises) یکی از شرکت‌های فعال در حوزه تولید نانوپوشش‌ها است. SDN™ یکی از پوشش‌های نانوکامپوزیتی این شرکت است. ادونیرا اینترپرایز اعلام کرده است که اخیرا نامه‌ای از اداره ثبت اختراعات آمریکا دریافت کرده که در آن ثبت پتنت این شرکت به شماره ۸۵۰۷۰۳۵ اعلام شده‌است. این دومین پتنت مهم این شرکت است که در این حوزه به ثبت رسیده است. با این دو پتنت موقعیت شرکت ادونیرا اینترپرایز در بخش فناوری پوشش تقویت شده و این شرکت را به عنوان یکی از پیشروان نانوپوشش‌های مبتنی بر سیالات معرفی می‌کند. این پتنت در بخش پوشش‌دهی سه بعدی هیبریدی بوده و با استفاده از آن می‌توان مواد نانوکامپوزیتی را روی زیرلایه‌های مختلف با شکل و جنس مختلف نظیر پلی‌کربنات، سرامیک، کوارتز و آلومینیوم ایجاد کرد.
ادونیرا اینترپرایز روش جایگزینی را برای روش‌های تحت خلاء (مانند CVD، PVD، ALD و…) و غیرخلاء (نظیر آبکاری، CBD، چاپ صفحه‌ای و …) ارائه کرده است که می‌تواند به عنوان رقیبی برای این روش‌های رایج باشد. یکی از نکات کلیدی در این فرآیند پتنت شده آن است که پوشش به‌دست آمده کاملا یکنواخت بوده و می‌توان برای تولید انبوه از این روش استفاده کرد. یکی از مزیت‌های این روش هزینه پایین آن است. با استفاده از این پتنت می‌توان روی قطعات صنعتی پوشش‌دهی کرد و در نهایت پوششی با عملکرد محافظتی بالا به‌دست آورد. قطعات سرامیکی پوشش‌دهی شده با این روش کاربردهای وسیعی داشته و از نظر اقتصادی بسیار بهینه هستند.
پوشش‌های صنعتی که برای بخش نیمه‌هادی مورد استفاده قرار می‌گیرند معمولا با چالش آلودگی، خوردگی و کارایی کم روبرو هستند. فرآیند جدید ادونیرا اینترپرایز موجب بهبود فرآیند تولید شده و در نهایت بر این مشکلات غلبه می‌کند.
این شرکت برای معرفی فناوری اخیر خود یک جلسه ارائه در فروم سیلیکون اینوویشن دارد. این فروم فضایی برای معرفی محصولات و فناوری‌های جدید شرکت‌ها است. مدیران این شرکت یک سخنرانی درباره این فناوری خواهند داشت.
المیرا ریابوا مدیر این شرکت می‌گوید: «این پتنت جدید موید تفاوت ما دیگر فعالان این حوزه است و ما را قادر می‌سازد تا به تولید انبوه نانوپوشش‌ها بپردازیم. ما از مسئولین برگزاری نشست اخیر تشکر می‌کنیم که فرصتی را برای معرفی فناوری جدید به ما می‌دهند.»
