سامانه لیتوگرافی جدید برای تولید نمایشگرهای بزرگ

گروه EV که یکی از ارائه‌دهندگان اصلی ویفر و تجهیزات لیتوگرافی برای بازار سامانه‌های میکروالکترومکانیکی، نانوفناوری و نیمه‌رساناهاست، سامانه جدیدی برای الگودهی سطوح وسیع به شکلی ارزان و با تفکیک‌پذیری نانومتری ارائه کرده است.

سامانه جدید گروه EV به نام EVG®۷۲۰۰ LA SmartNIL™ دارای مزایایی همچون تفکیک‌پذیری بالا و قیمت پایین بوده و می‌تواند در تولید نمایشگرهای سطح بالا، ابزارهای فونیکی، اُپتیک و کاربردهای زیست‌فناوری مورد استفاده قرار بگیرد.
گروه EV که یکی از ارائه‌دهندگان اصلی ویفر و تجهیزات لیتوگرافی برای بازار سامانه‌های میکروالکترومکانیکی، نانوفناوری و نیمه‌رساناهاست، این سامانه جدید را توسعه داده است. این سامانه می‌تواند در تولید نمایشگرها و کاربردهای دیگری که نیاز به الگودهی در سطح بزرگ دارند، به کار رود. EVG با بهره‌گیری از فناوری اختصاصی خود با نام SmartNIL و استفاده از سامانه لیتوگرافی اتوماتیک نانوچاپی تابش ماورای بنفش (UV-NIL) می‌تواند به شکلی مقرون به صرفه نانوالگودهی سطوح وسیع را انجام دهد. EVG7200 LA به طور خاص برای تولید صفحات نمایشگر GEN 2 (370 در ۴۷۰ میلی‌متر) طراحی شده‌است، اما می‌تواند در کابردهای دیگری همچون زیست‌فناوری، فتونیک و اُپتیک مورد استفاده قرار بگیرد.
NIL یک روش بسیار مقرون‌به‌صرفه است که امکان ایجاد الگوهای نانومقیاس روی سطوح بزرگ را ایجاد می‌کند؛ زیرا همچون لیتوگرافی نوری از اُپتیک پیچیده استفاده نمی‌کند. در نتیجه می‌تواند با کمترین مشکل، ساختارهای بسیار ریز زیر ۱۰۰ نانومتری را روی سطح الگودهی نماید. EVG که بزرگترین سامانه تولیدی مبتنی بر NIL را در اختیار دارد، به شکلی پیوسته قابلیت تولید خود را افزایش داده است تا پاسخگوی نیاز بازارهای جدید باشد.
افزودن سامانه جدید EVG7200 LA سطح لیتوگرافی نانوچاپی را بهبود بخشیده و امکان ایجاد لیتوگرافی با الگوهای نانومتری روی سطوح وسیع در مقیاس نمایشگرها را ایجاد می‌کند. در نتیجه ساختارهای جدید مبتنی بر فناوری‌ نانو که می‌توانند عملکرد ابزارها را بهبود بخشند، در دسترس بوده و می‌توانند در تولید نمایشگرها و محصولات دیگر به کار روند.
دکتر توماس گلینسنر، مدیر فناوری EVG، می‌گوید: «پیشتازی گروه EV در بازار و فناوری لیتوگرافی نانوچاپی بر مبنای سال‌ها تجربه و ارتباط با شرکا و مشتریان در حوزه‌های کاربردی مختلف و همچنین، توسعه و تحقیقات درون شرکت ایجاد شده است. به دلیل تقاضای مشتریان، فناوری SmartNIL خود را که نتایج بسیار برجسته‌ای در تولید بسترهای تا اندازه ۲۰۰ میلی‌متر داشت، ارتقا داده و اندازه سطح الگودهی آن را تا نمایشگرهای GEN 2 افزایش دادیم. با این فناوری می‌توانیم الگودهی کاملی برای بازار نمایشگرها ارائه کنیم».