شرکت نانومتریکس دو فناوری جدید برای طراحی و ساخت حافظههای فلش ارائه کرده است. با این دو فناوری میتوان طراحی و ساخت حافظههای با دانسیته بالا را تسریع کرد.
ارائه دو فناوری برای ساخت حافظههای با دانسیته بالا
شرکت نانومتریکس (Nanometrics) یکی از پیشروان در حوزه سامانههای کنترل فرآیند پیشرفته است. نانومتریکس اعلام کرد که دو فناوری این شرکت توسط یکی از شرکتهای تولیدکننده حافظه برای تولید حافظه انتخاب شدهاند. فناوری اول، پلتفورم مترولوژی ابعاد بحرانی نوری (OCD) و فناوری دوم نرمافزار NanoDiffract، نرمافزار آنالیز برای ساخت نسل جدید ادوات سه بعدی ۳D-NAND، است. این دو فناوری برای ساخت حافظههای فلش مورد استفاده قرار میگیرند.
از این دو فناوری برای کنترل لایهنشانی فیلمهای نازک و فرآیند اچ کردن استفاده میشود تا در نهایت ساختاری با دقت بالا برای تولید ادوات پیشرفته ایجاد شوند.
سرینی ودولا از مدیران این شرکت میگوید: «مشتریان در حال افزایش سرمایهگذاری در بخش تحقیق و توسعه نسل جدید ادوات NAND هستند تا دانسیته حافظه را افزایش دهند. با این کار میتوان هارد دیسک و حافظههای با حجم بالا و هزینه کم تولید کرد. این دو فناوری به تولید کنندگان کمک میکند تا فرآیند تولید خود را تسریع کنند و عملکرد فرآیندهای خود را بهبود دهند. در نهایت عملکرد مالی و رقابتپذیری تولیدکنندگان حافظه بهبود قابل توجهی پیدا میکند. این کار کمک شایانی به توسعه بازار ۳D NAND میکند.»
با افزایش تعداد لایههای مورد استفاده در معماری ۳D NAND، چالش موجود در این حوزه افزایش مییابد. محققان به دنبال روشهای غیرمخرب برای کنترل فرآیند ساخت هستند. استفاده از نرمافزار NanoDiffract و سامانه مترولوژی Trajectory این شرکت به تولید کنندگان کمک میکند تا روی فرآیند تولید، کنترل قابل توجهی داشته باشند.
از سال ۲۰۰۴ که این نرمافزار ارائه شد، بخشهای مختلفی نظیر حافظههای غیرفرار، حسگرهای تصویری CMOS، ۳D NAND و DRAM از آن بهرهمند میشوند.