مؤسسه فناوری نیوجرسی با دریافت حمایت مالی یک میلیون دلاری قصد دارد با همکاری دانشگاه یشیوا روی طراحی و ساخت مواد هوشمند جدید کار کند.
همکاری مشترک برای توسعه مواد جدید توپولوژیکی
مؤسسه فناوری نیوجرسی مبلغ یک میلیون دلار حمایت مالی از بنیاد کک (Keck) برای انجام پروژه‌ای سه ساله دریافت کرد. این پروژه با عنوان « Engineering New Materials Based on Topological Phonon Edge Modes » با همکاری دانشگاه یشیوا انجام خواهد شد. در این پروژه روی دینامیک بنیادی تقسیم سلولی و دیگر فعالیت‌‌های سلولی کار خواهد شد.
جول بلوم از مدیران مؤسسه فناوری نیوجرسی می‌گوید: «ما بسیار خوشحالیم که این حمایت مالی را دریافت کردیم. این بودجه برای انجام یک پروژه در حوزه فناوری نانو، علم مواد و بیوفیزیک هزینه خواهد شد.»
فادی دک از محققان این پروژه می‌گوید: « این حمایت مالی بنیاد کک برای ما بسیار هیجان انگیز است. با این بودجه ما می‌توانیم در راستای چشم‌اندازهای ۲۰۲۰ روی موضوعات بین رشته‌ای کار کنیم.»
در حال حاضر مطالعات مقدماتی کار انجام شده و نتایج آن در قالب یک مقاله در سمیناری ارائه شده‌است. در این مقاله نقش ارتعاشات منحصر به فرد موسوم به مود لبه فونون توپولوژیکی در عملکرد میکروتیوبول‌ها بررسی شده‌است. میکروتیوبول‌ها عناصر کلیدی در سلول‌های یوکاریوتی هستند. فونون‌های توپولوژیکی انرژی ارتعاشی یا صوتی کوانتایی است که در یک سطح یا لبه مواد محدود شده‌اند.
براساس نتایج این تحقیق، محققان می‌توانند طراحی و تولید نسل جدیدی از مواد را پیش‌بینی کنند. این مواد، بلورهای فونونیک توپولوژیکی هستند که کاربردهای وسیعی در پیل‌های خورشیدی و عایق‌ها دارند.
کاملیا پوردون، یکی از اعضاء این تیم تحقیقاتی، با همکاری چند محقق برجسته نظیر رجینالد فارو که در حوزه علوم نانو و مواد زیستی تخصص دارد به همراه کاناوال، استاد رشته فناوری نانو، طراحی الکترونیک و فرآیندهای تولید، روی این پروژه کار خواهد کرد.
این پروژه همکاری مشترکی میان مؤسسه فناوری نیوجرسی و دانشگاه یشیوا خواهد بود. مؤسسه فناوری نیوجرسی یکی از مراکز تحقیقاتی برجسته در آمریکا است که اثر اقتصادی مثبت ۷/۱ میلیارد دلاری روی ایالت نیوجرسی دارد.
