شرکت فنلاندی پیکوسان برای لایه‌نشانی اتمی ایتریا دستگاه پوشش‌دهی جدیدی ساخته است. با استفاده از این دستگاه می‌توان پوشش‌های لایه‌نازک از جنس ایتریم اکسید روی سطوح مختلف ایجاد کرد که مقاومت بالایی در شرایط سخت محیطی دارند.
ساخت دستگاه لایه‌نشانی اتمی برای تولید پوشش ایتریا
پیکوسان، یکی از پیشروان تولید ادوات لایه‌نشانی اتمی است که تجهیزات لایه نشانی برای صنایع مختلف تولید می‌کند. این شرکت موفق به ساخت دستگاه لایه‌نشانی اتمی ایتریا (ایتریم اکسید) با کیفیت بالا شده‌است که پوششی مقاوم در برابر خوردگی و شرایط سخت محیطی ایجاد می‌کند.
ایتریا با فرمول Y2O3، ماده‌ای متراکم، مستحکم و مقاوم در شرایط سخت است که می‌تواند از سطوح در برابر خوردگی و مواد شیمیایی محافظت کند. این ویژگی‌ها موجب شده تا این ماده به‌عنوان گزینه ایده‌آل به‌منظور محافظت از سطح شناخته شود و بتواند از سطوح در شرایط بسیار سخت محافظت کند. از کاربردهای این پوشش می‌توان به صنعت تجهیزات نیمه‌هادی و تولید فلز اشاره کرد.
در صنعت میکروالکترونیک نظیر قطعات مبتنی بر کربن، ترانزیستورهای لایه نازک و نیمه‌هادی اکسید فلز-ژرمانیوم، ایتریا از ثابت دی‌الکتریک بالا برخوردار است.
پوشش ایتریا معمولا با استفاده از لایه‌نشانی فیزیکی از فاز بخار، تبخیر با پرتوالکترونی یا روش‌های کندوپاش تولید می‌شود. این در حالی است که استفاده از روش لایه‌نشانی اتمی مزایای زیادی نسبت به این روش‌ها دارد. فیلم‌های ایتریا تولید شده با روش لایه‌نشانی اتمی عاری از حفره بوده، ضخامت کمی داشته و به شدت متراکم و بسیار یکنواخت هستند. این پوشش‌ها از نظر خلل و فرج و فراز و نشیب شرایط بهتری نسبت به پوشش‌های تولید شده با روش‌های رایج دارند. با استفاده از روش لایه‌نشانی اتمی پوشش با ضخامت بسیار کم نسبت به دیگر روش‌ها ایجاد می‌شود که این کار هزینه و میزان مصرف ماده اولیه را به حداقل می‌رساند.
از این رو شرکت پیکوسان دستگاهی برای لایه‌نشانی اتمی ایتریا تولید کرده است. دو مدل p-1000 و p-300B امکان پوشش‌دهی سطح با ایتریا را برای مشتریان فراهم می‌کند. شرکت پیکوسان اعلام کرده که این دستگاه‌ها به دلیل راکتور بزرگی که دارند می‌توانند در حجم بالا پوشش‌دهی انجام دهند و پوشش‌هایی با ویژگی‌های مناسب برای مقاومت در شرایط سخت ایجاد کنند.
