یکی از شرکتهای فعال در حوزه لیتوگرافی و نانوچاپ، مرکز صلاحیت ادغام ناهمگن را برای کمک به مشتریان و تسریع توسعه فناوری، راهاندازی کرده است.
راهاندازی مرکز صلاحیت برای تسریع توسعه محصولات
گروه صنعتی ایوی (EV Group) مرکز صلاحیت ادغام ناهمگن را تاسیس کرد. این مرکز جدید برای کمک به تسریع توسعه محصولات جدید و کمک به مشتریان راهاندازی شده است.
گروه صنعتی ایوی یکی از ارائهدهندگان خدمات در حوزه لیتوگرافی برای توسعه محصولات صنعت نیمههادی، فناورینانو و MEMS است.
براساس اطلاعات منتشر شده توسط این گروه صنعتی، این مرکز صلاحیت ادغام ناهمگن، راهاندازی شده تا به مشتریان در استفاده از رهیافتهای گروه ایوی کمک کند. همچنین این مرکز برای تسریع توسعه محصولات و برنامههای جدید خدمات متنوعی ارائه میدهد. از جمله حوزههایی که میتوان از حمایتهای این مرکز در آنها استفاده کرد به اینترنت اشیا، ادوات پوشیدنی، خودروهای خودران و حسگرهای پیشرفته میتوان اشاره کرد.
مرکز صلاحیت ادغام همگن، توانمندی گروه ایوی را در اتصال ویفر، دستکاری ویفر نازک و لیتوگرافی ترکیب کرده و همچنین زیرساخت تولید پایلوت این گروه را نیز به اشتراک میگذارد.
گروه صنعتی ایوی از طریق این مرکز صلاحیت جدید به مشتریان خود کمک میکند تا پیشرفت فناوری را تسریع کرده و خطرات آن را به حداقل رسانده و بتوانند فناوریهای متمایز کنندهای را توسعه دهند و در نهایت از طریق ادغام ناهمگن و بستهبندی پیشرفته، ضمن تضمین بالاترین استانداردهای حفاظت مالکیت فکری، محصولات جدیدی به بازار عرضه کنند.
مارکوس ویمپلینگر، از مدیران گروه ایوی میگوید: «ادغام ناهمگن معماری بستهبندی جدیدی را مورد استفاده قرار میدهد و به فناوریهای جدید تولید نیاز دارد تا از انعطافپذیری بیشتر سیستم پشتیبانی کند. این مرکز صلاحیت یک انکوباتور نوآورانه منبع باز را برای مشتریان و شرکا ما در سراسر زنجیره تامین میکروالکترونیک فراهم میکند، تا ضمن تجمیع رهیافتهای ما به کوتاه شدن چرخه توسعه کمک کند.»
این گروه پیش از این مرکز صلاحیت فتونیک لیتوگرافی نانوچاپ را نیز راهاندازی کرده بود. مرکز صلاحیت فتونیک یک انکوباتور نوآوری برای کسانی است که در حوزه لیتوگرافی نانوچاپ فعالیت دارند و به آنها کمک میکند تا زمان رسیدن یک فناوری به بازار کار کاهش پیدا کند. زیرساختهای این مرکز شامل اتاق تمیز، تجهیزات پشتیبانی از مراحل اصلی تولید در صنعت لیتوگرافی نانوچاپ است.