پژوهشگران دانشگاه یاسوج، دانشگاه علم و صنعت ایران و دانشگاه فناوری دونگگوان با توسعه یک فوتوالکتروکاتالیست جدید بر پایه ساختار دوگانه S-scheme، موفق به ساخت دستگاه غشایی پیشرفتهای شدند که میتواند سم بسیار خطرناک ریسین را بهصورت پیوسته از آب آلوده حذف کند. این سامانه که از ترکیب واکنشهای فوتوالکتروکاتالیسی و فیلتراسیون غشایی استفاده میکند، توانسته راندمان حذف ۹۸.۳۹ درصدی و معدنیسازی ۸۵.۶۷ درصدی را ثبت کند. پایداری چشمگیر دستگاه در شش چرخه عملیاتی، کارایی آن را برای تصفیه صنعتی و بلندمدت بسیار امیدوارکننده کرده است. این دستاورد، گامی مهم در توسعه فناوریهای نوین برای حذف سموم گیاهی و آلایندههای مقاوم بهشمار میرود. فوتوالکتروکاتالیست ZnCdFeSe که در این پروژه معرفی شده، یک نانوکامپوزیت است. تمام فازهای CdSe، ZnSe و FeSe₂ به صورت نانوساختار سنتز شدهاند. این مواد بهطور معمول در محدوده چند نانومتر تا چند ده نانومتر ساخته میشوند تا بتوانند انتقال بار، جذب نور و واکنشپذیری را بهطور اساسی بهبود دهند.
