لیتوگرافی به روش نانوچاپ (NIL) یک فرایند ساده برای انتقال الگو است که به عنوان روش جدیدی در فناورینانو الگودهی در حال پیشی گرفتن نسبت به روش مرسوم لیتوگرافی نوری میباشد. این روش اجازه ساخت ساختارهای دو و سهبعدی با تفکیک زیرمیکرونی و نیز اصلاح مواد تابعی را به ما میدهد و در زمینههای گوناگونی از زیستشناسی کاربرد دارد. دانشمندانی از برکلی با در نظر گرفتن اینکه نانو چاپ مستقیم نانوذرات فلزی باعث رسوب فلزی در دمای پایین و نیز قدرت تفکیک بالا در الگودهی میشود توانستند این فرایند را یک گام دیگر پیش برند.
یک روش کم هزینه و گسترده برای ساخت نانوالکترونیک
لیتوگرافی به روش نانوچاپ (NIL) یک فرایند ساده برای انتقال الگو است که به
عنوان روش جدیدی در فناورینانو الگودهی در حال پیشی گرفتن نسبت به روش
مرسوم لیتوگرافی نوری میباشد.
این روش اجازه ساخت ساختارهای دو و سهبعدی با تفکیک زیرمیکرونی و نیز
اصلاح مواد تابعی را به ما میدهد و در زمینههای گوناگونی از زیستشناسی
کاربرد دارد.
دانشمندانی از برکلی با در نظر گرفتن اینکه نانو چاپ مستقیم نانوذرات فلزی
باعث رسوب فلزی در دمای پایین و نیز قدرت تفکیک بالا در الگودهی میشود
توانستند این فرایند را یک گام دیگر پیش برند.
در نانو چاپ، یک قالب با ساختار نانویی روی یک ماده نازکی که روی یک زیر
لایه رسوب داده شدهاست محکم فشار داده میشود تا شکل قالب در آن ایجاد شود.
مواد ایدهآل معمولاً پلاستیکهای گرمایی، پلیمرهای گرمایی و یا سایر مواد
تغییر شکلپذیر میباشند.
دکتر کوستاس پی گریگوروپولس چنین توضیح میدهد: “نانو چاپ در فلزات به خاطر
دمای ذوب بالای آنها سخت است و معمولاً یک روش غیر مستقیم میباشد که باید
با استفاده از ماسکهای پلیمری انجام شود و همین امر باعث بالا رفتن هزینه
این فرایند میشود”.
گریگوروپولس، استاد مهندسی مکانیک دردانشگاه برکلی به همراه همکارانی از
واحد حسگرها و نیز دپارتمان شیمی دانشگاه برکلی توانستهاند یک روش تازه
برای نانوچاپ مستقیم فلزی با استفاده از محلول شامل نانوذرات فلزی ابداع
کنند.
گریگوروپولس چنین میگوید:” روش ما فرایند مربوط به ماسکهای پلیمری را حذف
میکند. در این روش ما با استفاده از یک محلول که شامل نانوذرات فلزی است
توانستیم عمل افزایش دما برای ذوب کردن فلز را حذف کنیم و به جای آن
نانوذرات فلزی را ذوب کنیم که دارای دمای ذوب پائین هستند”.
این گروه با استفاده از این روش و ترکیب آن با پلی تیوفن پایدار کربوکسیلات
توانستند ترانزیستورهای آلی اثر میدانی (OFET) با تفکیک میکرونی و زیر
میکرونی بسازند.
گریگوروپولس و همکارانش با همکاری مؤسسه ETH، زوریخ، یک سری مقالات در
زمینه فراوری نانوذرات با استفاده از لیزر به چاپ رساندهاند و با ادامه
این کار در نهایت آخرین مقاله خود را تحت عنوان” نانوچاپ مستقیم نانوذرات
فلزی برای ساخت الکترونیک نانو مقیاس” چاپ کردند و هم اکنون در حال به
کارگیری این روش برای رسیدن به افزارههای نانویی روی زیر لایههای انعطافپذیر
میباشند.
گریگوروپولس میگوید:”عملکرد کلی OFET ساختهشدهبه روش لایهای الکترونیک
SiO2 بسیار به عملکرد OFETهای ساختهشدهبه روش ما شباهت دارد و این نشان
میدهد که نانوچاپ به روش نانوذرهای میتواندOFETهایی با کیفیت مشابه با
روشهای مرسوم تولید کند”. او همچنین اضافه کرد: ” عملکردOFETها میتواند
با بهینهسازی فراوری پلیمر و یا با به کارگیری پلیمرهای نیمرسانا با تحرک
بالا افزایش یابد”.
گریگوروپولس مدعیاست که روش آنها قابل مقیاس است و میتواند برای تولید
انبوه نانوالکترونیک روی زیر لایههای حساس فعلیت یابد. او میگوید:” ما
قصد داریم که قابل اعتماد بودن، کم هزینه بودن و نیز پرمحصول بودن این روش
را نشان دهی”.
