ساخت سطح ضد انعکاس با الهام از چشم پروانه‌ی شب

کاهش انعکاس نور نقش مهمی در فناوری‌های مختلفی نظیر نمایشگرها و قطعات اپتیک دارد. محققان دانشگاه جونسو فنلاند یک سطح ضد انعکاسی را معرفی کرده‌اند که به میزان قابل توجهی انعکاس را در محدوده‌ی وسیعی از نور مرئی کاهش می‌دهد.

کاهش انعکاس نور نقش مهمی در فناوری‌های مختلفی نظیر نمایشگرها و قطعات اپتیک دارد. محققان دانشگاه جونسو فنلاند یک سطح ضد انعکاسی را معرفی کرده‌اند که به میزان قابل توجهی انعکاس را در محدوده‌ی وسیعی از نور مرئی کاهش می‌دهد. این طراحی جدید به هیچ عنوان تأثیری در رنگ سطح نداشته، آن را تغییر نمی‌‌دهد. در ضمن این سطح آب را دفع می‌‌کند (خاصیت آب‌‌گریزی) و می‌توان آن را با قیمت بسیار کم و دقت بالا تولید کرد.

منشأ پدیده‌ی «ضد انعکاس» خود طبیعت است؛ مثلاً خاصیت ضد انعکاس چشم پروانه‌ی شب موجب می‌شود که این حشره از چشمان شکارچیان در امان بماند.

در حوزه‌ی فناوری نانو، روش‌های جالب و ساده‌ای وجود دارد که با آن می‌توان سطوح ضد انعکاس را ایجاد کرد. یکی از راه‌های متداول برای کاهش انعکاس نور، استفاده از یک لایه‌ی نازک روی سطح است، همچنین می‌توان برای ضد انعکاس کردن از راه‌های دیگری استفاده کرد که از آن جمله می‌توان به اصلاح با یک الگوی مناسب یا افزودن یک ماده‌ی متخلخل به سطح اشاره کرد.

روش مورد استفاده‌ی این گروه تحقیقاتی این است که روی سطح را به نحوی اصلاح می‌‌کنند که اشکال هرمی‌‌شکل نظیر ساختارهای موجود در چشم پروانه‌ی شب روی سطح تشکیل شود. این الگوهای نانومقیاس چند منظوره ویژگی‌های جالبی را به سطح می‌دهند که می‌توان به کاهش انعکاس نور، آب‌‌گریزی، کنترل رنگ سطح اشاره کرد. برای تعیین شکل بهینه‌ی این ساختارهای هرمی، محققان محاسبات مختلفی را بر پایه‌ی نظریه‌‌های متفاوت انجام داده‌‌اند.

برای ساخت سطح ضد انعکاس، آنها از لیتوگرافی پرتو الکترونی برای ایجاد ماسک استفاده کردند، سپس با کمک ماسک ساخته‌‌شده و بهره‌‌گیری از اچ کردن مرطوب سیلیکون، ساختار هرمی معکوس را ایجاد کرده، در نهایت این ساختارها را با استفاده از لیتوگرافی نانومهرزنی به سطح دی اکسید سیلیکون شفاف انتقال دادند.

ویژگی‌های سطح ضد انعکاس ساخته‌‌شده با کمک اندازه‌‌گیری‌‌های بیضی‌‌سنجی مورد مطالعه قرار گرفته‌‌است. با افزودن ترکیب شیمیایی سیلان (SiH4) به سطح، سطح خاصیت ضد چسبندگی به خود گرفته و تا حد زیادی آب‌‌گریز می‌‌شود به‌‌طوری که زاویه‌ی تماس آن به ۱۴۰ درجه می‌‌رسد.

اگر چه در این پروژه از لیتوگرافی پرتو الکترونی استفاده شده‌‌است، می‌توان از روش‌های دیگری برای تولید سریع در حجم انبوه استفاده کرد؛ مثلاً می‌توان سطح را در معرض پرتوهای تداخلی قرار داد تا لایه‌ی ماسک‌‌کننده ایجاد شود و یا از فرایند غلتاندن برای مرحله‌ی مهرزنی استفاده شود.

گفتنی است که نتایج این پروژه در نشریه‌ی Nanotechnology به چاپ رسیده‌‌است.