محققان IBM با استفاده از نوک داغ‌شده در لیتوگرافی روبشی، توانستند الگوهایی به کوچکی ۱۵ نانومتر را روی مواد آلی ایجاد کنند. این مقدار نصف چیزی است که پیش از این با استفاده از روش‌های دیگر نظیر لیتوگرافی الکترونی ساخته شدهاست. این روش برای ساخت ادوات الکترونیکی در آینده بسیار ایده‌آل است.
نازک‌ترین الگودهی جهان با کمک لیتوگرافی روبشی
محققان IBM با استفاده از نوک داغ‌شده در لیتوگرافی روبشی، توانستند الگوهایی به کوچکی ۱۵ نانومتر را روی مواد آلی ایجاد کنند. این مقدار نصف چیزی است که پیش از این با استفاده از روش‌های دیگر نظیر لیتوگرافی الکترونی ساخته شدهاست. این روش برای ساخت ادوات الکترونیکی در آینده بسیار ایده‌آل است.
امروزه تراشه‌های کامپیوتری و دیگر قطعات الکترونیکی از روش لیتوگرافی الکترونی یا نوری ساخته می‌شوند که در این کار از الگوهای مقاوم آلی استفاده می‌شود. مشکل این روش‌ها این است که برای ساخت ساختارهای زیر ۳۰ نانومتر مناسب نیستند و دلیل آن هم پدیده‌ای است به نام اثر مجاورت. طی این پدیده الکترون در هنگام اثرگذاری روی سطح به‌طور ناخواسته مناطق مجاور محل مورد نظر را تحت تأثیر قرار می‌دهد و در نهایت الگوی پدیدآمده بزرگ‌تر از آن چیزی است که از پیش انتظار می‌رفت.
برای حل این مشکل محققان شرکت IBM در سوئیس، موفق به ابداع روشی شدند که در آن از لیتوگرافی روبشی استفاده می‌شود زیرا که در آن، نوک میکروسکوپ داغ شده و در حین تماس با سطح حاوی فیلم نازک آلی، روی آن اثر گذاشته و آن را تبخیر می‌کند. الگوی ایجادشده می‌توان به سطح سیلیکون ـ به‌عنوان ماده‌ی استاندارد در ساخت قطعات الکترونیکی ـ برد. به‌دلیل وجود امکان انتقال این الگوها به سطوح مختلف می‌توان از این روش در ساخت قطعات و ادوات الکترونیکی، پزشکی و علوم زیستی نانومقیاس استفاده کرد.
نوک مورد استفاده در این روش ۵۰۰ نانومتر طول و چند نانومتر پهنا دارد که به یک تیرک متصل است. با این نوک می‌توان سطح را با دقت ۱ نانومتر اسکن کرد. حال با اعمال نیرو و گرما به این نوک، می‌توان از آن در زدودن بستر استفاده کرد و یک الگوی از پیش تعیین‌شده را ایجاد کرد.
در این پروژه، محققان IBM از یک شیشه‌ی آلی استفاده کردند؛ زیرا پیوندهای این ماده در دمای ۳۰۰ تا ۵۰۰ درجه‌ی سانتی‌گراد شکسته می‌شوند.این روش نسبت به لیتوگرافی الکترونی بسیار ارزان‌تر بوده، می‌توان آن را به‌راحتی بر روی یک میز کار اجرا کرد؛ در حالی که برای لیتوگرافی الکترونی شرایط خاصی باید اعمال شود. همچنین از این روش می‌توان در ساخت الگوهای ۲ و ۳ بعدی استفاده کرد.
این گروه با این روش توانستند کوچک‌ترین نقشه‌ی ۳بعدی جهان را در دمای ۷۰۰ درجه‌ی سانتی‌گراد ایجاد کنند. این نقشه در کمتر از چند دقیقه ساخته شدهاست.
