طی سال‌های اخیر دانشمندان به‌منظور تولید نانوساختارهای ساده نظیر نانوسیم، از روش لیتوگرافی با یخ استفاده کرده‌اند. اخیراً پژوهشگران دانشگاه هاروارد از این روش برای تولید ادوات نانومقیاس استفاده کرده‌اند که ساختار پیچیده‌تری دارند.
لیتوگرافی نوین برای تولید نانوادوات
| چند سال قبل پژوهشگران دانشگاه هاروارد نشان دادند که نانوساختارها را می‌توان روی یک لایه‌ی یخ نازک و پایدار که بر روی سیلیکون قرار گرفته، با روش پرتو الکترونی یا یونی متمرکزشده، ایجاد کرد. آنها با این روش الگوهایی به عرض ۲۰ نانومتر ایجاد کردند. نکته‌ی جالب اینجاست که الگودهی با یخ ایجادشده از گازهای متراکم، به‌سادگی امکان‌پذیر است. در این روش که از یخ به‌عنوان لایه‌ی مقاوم در برابر پرتو استفاده می‌شود، نیازی به پختن نیست و کل فرایند در یک مخزن خلأ قابل انجام بوده که با قدرت تفکیک بالا می‌توان آن را رصد کرد. این روش مواد زائد باقی مانده ندارد و تنها با تصعید یخ می‌توان آن را از سطح زدود. |
|
| اخیراً محققان دانشگاه هاروارد موفق شدند با استفاده از لیتوگرافی یخ، ادوات نانومقیاس بسازند؛ البته آنها پیش از این ساختارهای ساده‌ای نظیر نانوسیم را با این روش تولید کرده بودند، اما این اولین باری است که اقدام به تولید ساختارهای پیچیده می‌کنند، انگیزه‌ی اصلی آنها حذف آلودگی‌هایی است که در ساخت ادوات نانومقیاس برای توالی‌سنجی دی‌ان‌ای وجود دارد. برای این کار آنها روی ساخت ادوات مبتنی بر نانولوله‌های کربنی کار کردند. روش‌های گوناگونی برای تولید چنین ادواتی وجود دارد؛ اما لیتوگرافی با یخ یکی از دغدغه‌های محققان این بود که آیا قطعات فلزی‌ای که با لیتوگرافی با |
