گروهی از محققان فرانسوی و آلمانی یک فرایند جدید برای تولید روکش‌های بسیار نازک ارائه کرده‌اند که ساده، چندمنظوره و برای فرایندهای مقیاس بزرگ، مناسب است.
پیشرفتی جدید در فرایند رسوب‌دهی لایه به لایه
| روکش‌ها موجب عامل‌دار شدن سطوح می‌شوند تا از آنها در برابر فرایندهای مختلفی همچون خوردگی، سایش و فرسایش محافظت کرده و یا ظاهر زیبایی به آنها ببخشند. روکش‌های خودرو و تابه‌های نچسب مثال‌های خوبی در این زمینه هستند. از سوی دیگر لنزهای تماسی، قطعات کاشتنی بدن، LEDها و پیل‌های فتوولتائیک به روکش‌های بسیار نازکی نیاز دارند. حال گروهی از محققان موسسه Charles Sadron (واقع در استراسبورگ فرانسه) به رهبری گرو دچر یک فرایند جدید برای تولید روکش‌های بسیار نازک ارائه کرده‌اند که ساده، چندمنظوره و برای فرایندهای مقیاس بزرگ، مناسب است. |
|
| یکی از فرایندهای ساده و در عین حال قدرتمند برای تولید فیلم‌های نانوساختار، روش رسوب‌دهی لایه به لایه است. در این روش دو جزء برهمکنش‌کننده، همچون پلیمرهای باردار منفی و مثبت، به صورت یک در میان از محلول روی سطح جذب شده و از طریق فرایند خودآرایی، فیلم‌های نازک هیبریدی را شکل می‌دهند. یکی از پیشرفت‌هایی که در این روش صورت گرفته است، استفاده از رسوب‌دهی پاششی است که در آن بخارهای اتمی حاوی هر دو جزء، به صورت یک در میان روی سطح اسپری می‌شوند. این امر موجب تسریع فرایند شده و امکان افزایش مقیاس تولید تا سطح صنعتی را فراهم می‌نماید. حال محققان فرانسوی و آلمانی توانسته‌اند پیشرفت دیگری در این حوزه ایجاد جالب این است که این فرایند در مورد زوج‌هایی که در صورت استفاده در فرایند جزئیات این تحقیق در مجله Angewandte Chemie منتشر شده است. |
