گروهی از محققان آمریکایی اولین روش نانوساخت را که قابلیت ایجاد الگوهای بزرگ با دانسیته، فاکتورهای درونی و تقارن شبکه تنظیم‌پذیر دارد، ابداع کرده‌اند.
ابداع روشی جدید برای نانوالگودهی
| محققان دانشگاه نورث‌وسترن اولین روش نانوساخت را که قابلیت ایجاد الگوهای بزرگ با دانسیته، فاکتورهای درونی و تقارن شبکه تنظیم‌پذیر دارد، ابداع کرده‌اند. در این روش که الگودهی نانومقیاس به کمک حلال یا دادن الگوهای ایجاد شده در معرض حلال‌های مختلف تا ۴۵ درصد قالب مادر کاهش داد. می‌توان با استفاده از این روش الگوهای نانومقیاسی در اندازه وسیع و به شکلی ارزان برای کاربردهایی همچون پلاسمونیک، پیل‌های خورشیدی و ذخیره اطلاعات تولید کرد. در حال حاضر محققان از لیتوگرافی تابش الکترونی یا آسیاب تابش یونی متمرکز حال تری اودوم و همکارانش روش جدید ابداع کرده‌اند که این مشکلات را ندارد. این محققان نشان داده‌اند که می‌توانند دانسیته آرایه‌ها ایجاد شده را از . |
|
| محققان دانشگاه نورث وسترن کار خود را با یک قالب پلی‌اورتانی به قطر ۶ اینچ که حاوی ساختارهایی با اندازه ۱۸۰ نانومتر و با فاصله ۴۰۰ نانومتر از هم بود، آغاز کردند. سپس یک الاستومتر (پلی دی‌متیل سیلوکسان یا PDMS) را با استفاده از قالب اصلی الگودهی کردند تا قالب‌هایی از جنس PDMS تولید کنند. این قالب‌ها ابتدا با حلال خیس شده و سپس در تماس با بستر پوشیده شده با ماده مقاوم نوری (فتورزیست) قرار گرفتند. آرایه‌هایی با دانسیته بالاتر این پژوهشگران برای تولید آرایه‌هایی با دانسیته بالاتر یک فتورزیست را که برای تولید آرایه‌های با دانسیته کمتر نسبت به قالب مادر، محققان پس از گرم جزئیات این تحقیق در مجله Nano Letters منتشر شده است. |
