الگودهی نانوساختارها روی سیلیکون حکاکی شده

محققان کانادایی موفق به ساخت اکسید تیتانیوم نانوساختاری درون حفره‌های ریز روی
سطوح سیلیکونی شدند. نانوالگودهی به این روش در حوزه‌های متنوعی از کاتالیست گرفته
تا مهندسی بافت کاربرد خواهدداشت. آنها با استفاده از خواص منحصربه‌فرد شیمی سطح
سیلیکون و به‌کارگیری کوپلیمرها، ابتدا به شیوه نانوالگودهی به کمک عامل‌های اسید
هیدروفلوریک (HF) حفره‌هایی را به شکل دلخواه روی سطح آن حکاکی کردند و سپس با عامل‌دار
کردن موازی درون یا بیرون این حفره‌های سیلیکونی جزیره‌های بسیار کوچکی از اکسید
تیتانیوم که با سیلیکون احاطه شده باشند را به‌وجود آورد.

این ساختارهای عامل‌دار شده شیمیایی، شکل‌های منظمی دارند که به جهت سیلیکون آغازگر
بستگی دارد. همچنین اندازه آنها را هم می‌توان با تغییر زمان حکاکی و غلظت این اسید
کنترل کرد. به گفته بوریاک، با توجه به تفاوت خواص شیمیای داخل و خارج این حفره‌ها
امکان انجام واکنش‌ها به‌طور همزمان در داخل و خارج آن و یا هرکدام به‌صورت منفرد
وجود دارد. به این ترتیب می‌توان انجام واکنش‌ها را در مقیاس نانو به‌طور کامل
کنترل کرد که دستاورد بزرگی به‌شمار می‌آید و می‌تواند کاربردهای بسیار متنوع و چند
جانبه‌ای داشته باشد.

بوریاک و همکارانش امیدوارند در آینده کاربردهایی از قبیل مهندسی بافت و اتصالات
بین مداری مهمترین حوزه‌های کارایی این شیوه نانوالگودهی باشد. به گفته آنها همچنین
از این روش می‌توان در ابزارهایی از قبیل کاشت استخوان و یا اتصال نرون‌های عصبی هم
استفاده کرد. آنها هم اکنون این محققان سرگرم انجام بررسی‌های بیشتر و همه
جانبه‌تردر این زمینه برای ساخت مواد جدید هستند. گفتنی است گزارشی از این تحقیق در
نشریه ACS Nano منتشر شده است.