اخیرا روشی جدید برای چاپ الگوهای نانومقیاس ارائه شده است که هم هزینه تولید را کاهش می‌دهد و هم مقدار ماده مورد استفاده در آن کمتر از روش‌های مرسوم می‌باشد.
روشی برای چاپ الگوهای نانومقیاس با قدرت تفکیک زیر ۱۰ نانومتر
اخیرا روشی جدید برای چاپ الگوهای نانومقیاس ارائه شده است که هم هزینه تولید را کاهش می‌دهد و هم مقدار ماده مورد استفاده در آن کمتر از روش‌های مرسوم است.
با شرایط فعلی سیستم‌های ساخت میکرو و نانوادوات، چاپ مستقیم مواد عاملی کاراترین و ارزان‌ترین روش برای تولید این ادوات است. چاپ مستقیم هم مشکل پیچیدگی و گران‌قیمت‌بودن تجهیزات را به‌همراه دارد و هم مزایای کاهش زمان تولید، کاهش مقدار ماده مصرفی اولیه و کاهش مقدار ماده شیمیایی خطرناک را در پی دارد.
مهمترین مزیت لیتوگرافی نانوچاپی در سادگی آن است. در این روش نیازی به اپتیک پیچیده یا منابع تابش با انرژی بالا نیست. همچنین نیاز به مواد مقاوم در برابر نور جهت ایجاد قدرت تفکیک و حساسیت بالا در یک طول موج نیست. با توجه به این که ملزومات ساده در این روش مورد استفاده قرار می‌گیرد، این فناوری ما را قادر می‌سازد تا روشی ارزان با امکان تولید انبوه در اختیار داشته باشیم.
لیتوگرافی نانوچاپ در حال حاضر در حوزه‌های مختلف نظیر تولید نانوادوات زیستی، ادوات نانوفتونیک، الکترونیک آلی و الگودهی مواد مغناطیسی مورد استفاده قرار می‌گیرد. یک تیم تحقیقاتی اخیرا روشی جدید برای نانوچاپ مستقیم مبتنی بر نانوفتونیک ارائه کرده است که با استفاده از آن می‌توان روی مواد جاذبِ طول موج‌های مرئی با ضریب شکست بالا، چاپ انجام داد.
لیتوگرافی نانوچاپ در حال حاضر در حوزه‌های مختلف نظیر تولید نانوادوات زیستی، ادوات نانوفتونیک، الکترونیک آلی و الگودهی مواد مغناطیسی مورد استفاده قرار می‌گیرد. یک تیم تحقیقاتی اخیرا روشی جدید برای نانوچاپ مستقیم مبتنی بر نانوفتونیک ارائه کرده است که با استفاده از آن می‌توان روی مواد جاذبِ طول موج‌های مرئی با ضریب شکست بالا، چاپ انجام داد.
این فرآیند برای الگودهی فیلم‌ها با ضریب شکست بالا و شفافیت نوری بالا مناسب است بنابراین از آن می‌توان برای تولید ادوات فوتونیک استفاده کرد. این روش برای چاپ عاری از ترک با قدرت تفکیک و عملکرد بالا مناسب . برای تولید ساختارهای نانوفتونیک جدید نظیر بلورهای فوتونیک، ضریب شکست بالا اهمیت زیادی دارد.
نتایج این پژوهش در قالب مقاله‌ای تحت عنوان A route for fabricating printable photonic devices with sub-10 nm resolution در نشریه Nanotechnology به چاپ رسیده است، که در آن محققان جزئیات روش چاپ مستقیم برای تولید نانوادوات فتونیکی را ارائه کرده‌اند.
در این پروژه محققان ماده هیبریدی آلی معدنی مبتنی بر تیتانیوم ساختند که برای چاپ روی فیلم‌های TiO2 عاری از ترک در مقیاس انبوه مناسب است. این روش جدید این امکان را فراهم می‌کند که الگوهایی به ابعاد ۵ نانومتر روی فیلم‌های TiO2 ایجاد شود.
پروز از محققان این پروژه می‌گوید ما نشان دادیم خواص نوری فیلم‌های فتونیک چاپ شده را می‌توان به‌سادگی با یک مرحله عملیات حرارتی تنظیم کرد.
