دستگاه نانولیتوگرافی با امکان الگودهی در حجم بالا

گروه صنعتی ای وی جی (EVG) دستگاه لیتوگرافی جدیدی به بازار عرضه کرده است که با استفاده از آن می‌توان الگوهای میکرو و نانومقیاس ایجاد کرد. مزیت این دستگاه در قدرت تفکیک بالا، حجم بالای الگودهی و عدم آلودگی سطح توسط ماسک است

گروه صنعتی ای وی جی (EVG) یک از تولیدکنندگان ادوات لیتوگرافی، MEMS و فناوری‌نانو است. این گروه اخیرا محصول جدیدی موسوم به EVG®PHABLE™ را ارائه کرده است که ویژه تولید قطعات فتونیک است. این دستگاه ابزاری برای فتولیتوگرافی غیرتماسی مبتنی بر ماسک کردن سطح بوده که در نهایت می‌تواند با قدرت تفکیک بالا و با هزینه کم، میکرو و نانوالگوهایی در سطح ایجاد کند. از این دستگاه می‌توان برای الگودهی در ساختار ویفرها و LEDها استفاده کرد؛ مزیت این روش آن است که حجم تولید با آن بسیار بالا و در حد مقیاس صنعتی است.
EVG®PHABLE™ یک دستگاه خودکار بوده که با همکاری شرکت یولیتا (Eulitha) ساخته شده‌است. کار با این دستگاه بسیار ساده بوده و بدون تماس با سطح می‌تواند لیتوگرافی با قدرت تفکیک بالا انجام دهد. این مزایا موجب شده تا بتوان از این دستگاه برای الگودهی زیرلایه‌های یاقوت کبود و در نهایت بالا بردن کارایی LEDها استفاده کرد. فناوری به کار رفته در این دستگاه به شکلی است که می‌توان الگوهایی از چند میکرون تا ۲۰۰ نانومتر روی سطح ایجاد کرد. مکانیسم کار این دستگاه به نحوی است که محدودیت عمق نفوذ نداشته، در نتیجه اختلاف ضخامت زیر لایه روی کیفیت کار تاثیری ندارد. بنابراین با استفاده از این دستگاه می‌توان زیرلایه‌هایی به قطر ۶ اینچ را تنها در یک مرحله الگودهی کرد. از سوی دیگر حجم الگودهی کاملا مستقل از اندازه ویفر مورد استفاده است. یکی از ویژگی‌های این دستگاه آن است که فاصله میان زیرلایه و ماسک در حد چند صد میکرون بوده در نتیجه آلودگی ماسک به زیرلایه وارد نمی‌شود.
هرمان والتل از مدیران این گروه صنعتی می‌گوید: از این که این دستگاه به مرحله تجاری‌سازی رسیده بسیار خوشحال هستیم. این کار با همکاری شرکت یولیتا انجام شده‌است. این دستگاه ابزاری مفید برای مشتریان ما در حوزه اپتیک، LED و فتونیک است.
با استفاده از این دستگاه می‌توان الگوهای تک بعدی نظیر خط و فضا، الگوهای دو بعدی نظیر شبکه‌های شش وجهی و مربعی ایجاد کرد. بنابراین با استفاده از آن می‌توان سطح LEDها و ادوات نشر نوری را به دلخواه الگودهی کرد.