شرکت کی ایال تنکور اقدام به رونمایی از دستگاه شناسایی نقص ساختاری خود کرد. این دستگاه میتواند نقصهای ساختاری محصولات الکترونیکی نظیر تراشهها و ICها را در مقیاسنانو شناسایی کند.
رونمایی از دستگاه شناسایی نقصهای نانومقیاس ساختاری
شرکت کی ایال تنکور (KLA-Tencor Corporation) از سیستم چهارگانه جدید خود ۲۹۲۰ Series, Puma™ ۹۸۵۰, Surfscan® SP5 و eDR™-۷۱۱۰رونمایی کرد. با این تجهیزات میتوان نقصهای نانومقیاس موجود در سطح را مطالعه کرد و همچنین ادوات الکترونیکی ۱۶ نانومتری تولید نمود. ویفر سری ۲۹۲۰ که با پلاسما الگودار شده، ویفر Puma™ ۹۸۵۰ الگودار شده با لیزر روبشی و سیستم بازرسی نقص ویفرهای بدون الگو سرفاسکن SP5 میتوانند حساسیت محصولات تولید شده را افزایش دهند. از انجایی که این ادوات میتوانند نقصهای نانومقیاس را مشخص کنند، امکان تولید مواد جدید و فرآیندهایی با نود کوچکتر فراهم میشود. هر یک از این سیستمها به یک پیمایشگر پرتو الکترونی مجهز هستند که شرایط بازرسی خودکار نقصها را فراهم میکند. سازندگان تراشه با استفاده از این تجهیزات میتوانند اطلاعات دقیقی از محصول بدست آورده و سریع اقدام به رفع مشکلات احتمالی کنند.
باب بل از مدیران این شرکت میگوید: “با توسعه صنعت الکترونیک و کوچکتر شدن طراحیها از ۱۶ به ۱۴ نانومتر، چالشهای جدیدی در مسیر تولید ادوات الکترونیکی ایجاد میشود. این ابزار جدید، پرچمدار دستگاههای بازرسی بوده و میتوان از آنها در حوزههای مختلف استفاده کرد. با این سیستم جدید مجهز به پرتوالکترونی، میتوان نقصهای نانومقیاس را در تراشه یافت که این کار با سرعت بالایی انجام میشود. همچنین میتوان نحوه پخش نقصها در ساختار تراشه را با دقت بالایی بدست آورد. مشتریان ما با استفاده از این ابزار جدید قادر به استخراج اطلاعات جامعی از محصولات خود خواهند بود که با این کار شرایط بهینهسازی محصول فراهم شده و سرعت رسیدن به بازار افزایش خواهد یافت.”
در این ابزار از نسل سوم منبع پلاسما استفاده شده که مقدار تابش را به دو برابر افزایش میدهد. با این کار عمق بیشتری از نمونه پیمایش شده و پیکسلهای کوچکتری از نمونه بازرسی میشوند. استفاده از الگوریتمهای پیشرفته در این ابزار موجب شدهاست تا حساسیت مودهای نوری آن افزایش یافته و نقصهای موجود روی ICهای پیچیده شناسایی شوند. یکی از اصلیترین مزیتهای این ابزار آن است که میتواند سرعت بازرسی محصولات را افزایش دهد.