ایجاد لایه نازک نانوساختار NiTi توسط محققان کشورمان

این آلیاژ به صورت لایه نازک در ساخت میکرووالوها، میکروپمپ‌ها، MEMS، BioMEMS،
میکرولوله‌های هوشمند، نانوروبات‌ها، نانوچنگ‌ها و … کاربرد دارد و نیز می‌توان
از آن در صنایع هواپیمایی، مهندسی پزشکی، مهندسی بافت، جراحی قلب آنژیوگرافی و
در ارتودنسی استفاده نمود.

دکتر سنجابی در گفتگو با بخش خبری سایت ستاد ویژه توسعه فناوری نانو، اظهار
داشت: “هدف اصلی از این پژوهش که در قالب پایان‌نامه دکتری اینجانب انجام شده،
تولید آلیاژهای حافظه‌دار نانوساختار از عناصر خالص بوده است و لایه نازک
نانوساختار این آلیاژهای حافظه‌دار بر پایه NiTi، به کمک روش کند و پاش و تحت
شرایط خلاء UHV، تولید شده است. روش مورد استفاده در این پروژه در مقایسه با
روش‌های دیگر بسیار مقرون به صرفه بوده و می‌توان با کنترل پارامترهای دستگاه
کند و پاش هرگونه ترکیبی از آلیاژهای NiTi را به صورت دوتایی و سه تایی تولید
نمود و خواص حافظه‌داری آلیاژها را در دماهای پایین، دمای اتاق و دمای بالا تا
۴۰۰˚C به دست آورد”.

عضو هیئت علمی گروه نانوفناوری دانشگاه تربیت مدرس در ادامه گفتگو و در تشریح
نحوه انجام کار، گفت: “در این پژوهش از عناصر خالص Ni، Ti برای رشد لایه نازک
NiTi با ترکیبات مختلف و عناصر دیگر چون Hf برای رشد لایه نازک قابل استفاده در
دمای بالا (NiTiHf) استفاده شده است. به طور خلاصه با کنترل فشار گاز آرگون،
دمای رشد و نسبت توان اعمالی به تارگت‌ها در دستگاه کند و پاش، می‌توان هرگونه
آلیاژ حافظه‌داری با ترکیب خاص و به صورت لایه نازک تولید نمود. مشخصه‌یابی
لایه‌ها توسط دستگاه‌های XRD، FESEM، TEM، DSC، Electerical Resistivity و AFM
انجام گرفته است.

شایان ذکر است که محصول تولید شده در این پروژه کاملاً قابل مقایسه با محصولات
خارجی است، با این تفاوت که کنترل ترکیب شیمیایی از مزایای این پروژه است.

جزئیات این کار تحقیقاتی
در مجلهA Vacuum Science and Technology(جلد ۲۳، شماره
۵، صفحات ۱۴۲۵-۱۴۲۹، سال ۲۰۰۵) منتشر شده است.