مدلسازی تنش باقیمانده در لایه‌های نازک نیکل با استفاده از روش (۱+۱) بعدی در دانشگاه تهران

دکتر هادی سوالونی استاد دانشکده فیزیک دانشگاه تهران، در پژوهشی به مدلسازی اثر پارامترهای مختلف لایه نشانی در ساختار لایه‌های نازک نیکل تولید شده در دستگاه خلاء، پرداخته است. این نوع لایه‌ها در صنعت اپتیک کاربرد فراوانی دارند.

New Page 1

فناوری نانو سهم به سزایی در رشد و گسترش روش‌های لایه نشانی و توسعه فناوری لایه نازک داشته است. لایه‌های نازک تحت شرایط انباشت (لایه نشانی) متفاوتی تولید می‌شوند و ازاینرو ساختارهای نانو مقیاس متفاوتی دارند. شناسایی فرایندهای درگیر در رشد ساختارها مختلف و ارزیابی آنها‌ می‌تواند به تولید نمونه‌های مطابق با هدف، کمک شایانی نماید. این امر نیازمند مدلسازی و شبیه سازی فرایندهای مذکور می‌باشد.
دکتر هادی سوالونی استاد دانشکده‌ی فیزیک دانشگاه تهران، در پژوهشی به مدلسازی اثر پارامترهای مختلف لایه نشانی در ساختار لایه‌های نازک نیکل تولید شده در دستگاه خلاء، پرداخته است. این نوع لایه‌ها در صنعت اپتیک کاربرد فراوانی دارند.
این پژوهشگر جزئیات طرح را اینگونه شرح می‌دهد: “در این تحقیق ابتدا با استفاده از روش (۱+۱) بعدی، تنش باقیمانده در لایه‌های نازک نیکل مدلسازی شده‌اند. سپس با تنش باقیمانده در لایه های نازک نیکل تهیه شده تحت شرایط “خلا فرا زیاد” مقایسه گردیده‌اند. نمونه مرجع آزمایشگاهی به روش وارن – آورباخ سنتز گردیده، داده های مربوط به آن از نتایج آنالیز پراش پرتو ایکس XRD استخراج گردیده است. بررسی و مقایسه‌ی نتایج روش‌های تجربی و مدلسازی حاکی از سازگاری بالای الگوی (۱+۱) بعدی با نتایج تجربی است”.
دکتر سوالونی مهمترین مشکل پژوهشی خود را نبود دستگاه‌های لازم جهت تهیه و آنالیز لایه نازک دانست و افزود: “باید سیاست‌هایی تدوین گردد که تجهیزات دقیق مورد نیاز، خریداری شده و در اختیار پژوهشگران قرار گیرد تا بتوان آنالیز نمونه‌ها را در داخل کشور انجام داد”. استاد دانشگاه تهران با بیان اینکه هر روز شاهد چاپ مقالات بین‌المللی زیادی هستیم با این وجود تعداد اندکی از آنها مقالات ارزشمندی می‌باشند، تأکید کرد: “چاپ مقالات برای رشد سطح علمی کشور لازم و ضروری است چرا که اگر این روند متوقف شود، آن تعداد محدود مقالات با ارزش نیز دیگر چاپ نخواهند شد”.
وی در خصوص انتظارات خود از ستاد ویژه توسعه فناوری نانو اظهار داشت: “هر ساله ستاد ویژه توسعه فناوری نانو برترین‌ها را از میان تمامی پژوهش‌ها انتخاب می‌کند. اگر این کار با تفکیک رشته‌ها انجام پذیرد شاید مقایسه بصورت عادلانه‌تر و معقول‌تری صورت گرفته باشد”.
جزئیات این پژوهش که از حمایت‌های تشویقی ستاد بهره‌مند شده در مجله‌ی Physical status solidi (شماره ۱۰، صفحه‌ی ۳۶۳۸-۳۶۲۰، سال ۲۰۰۷) منتشر شده است.