شناسایی پدیده‌ی سایش در سطح اتمی

دانشمندان با شناسایی مواد مقاوم در برابر سایش، تلاش می‌کنند تا علت اصلی پدیده‌ی سایش را در سطح اتمی و مولکولی بررسی و مطالعه کنند.

دانشمندان با شناسایی مواد مقاوم در برابر سایش، تلاش می‌کنند تا علت اصلی پدیده‌ی سایش را در سطح اتمی و مولکولی بررسی و مطالعه کنند.

زمانی که دو سطح در تماس با یکدیگر باشند، پدیده‌ی سایش و اصطکاک ایجاد می‌شود و مقداری از انرژی سیستم تلف شده و کارآیی آن کاهش می‌یابد.

گرگ سایر، مهندس مکانیک دانشگاه فلوریدا، بیان می‌کند که سایش، پدیده‌ی مشترک و اجتناب‌ناپذیر در سیستم‌های لغزشی و متحرک است. سایر و همکارانش موفق شدند تا از ماده‌ای با نام پلی تترا فلئورو اتیلن، که تفلون نیز نامیده می‌شود، برای حل مشکل سایش در سیستم‌های متحرک استفاده کنند. این ماده نسبت به سایش، میلیون‌ها برابر مقاومتر از دیگر مواد است. سایر و همکارانش فرضیه‌های مختلفی را برای توضیح پدیده‌ی سایش در بین سطوح مطرح کردند ولی جواب مشخصی برای آنها پیدا نکرده‌اند. همچنین ایشان بیان می‌کند که ممکن است سایش سطح از طریق فرآیندهای زیر انجام شود که عبارتند از: نوآرایی اتم‌ها و مولکول‌ها، شکست‌های کوچک و مجزا، برش‌های جزیی، دیگر پدیده‌های ناشناخته.

دانشمندان برای بررسی فرضیه‌های مذکور، از میکروسکوپ نیروی اتمی برای تصویربرداری سطوح در مقیاس اتمی و از دستگاه‌های دقیق برای اندازه‌گیری نیروهایی که در بین سطوح بوجود می‌آیند، استفاده می‌کنند.

محققان نانوذرات آلومینا را در ساختار پلی تترا فلئورواتیلن وارد نمودند و مشاهده کردند که سایش به‌میزان قابل توجه‌ای کاهش می‌یابد. البته پلیمرهای دیگری را نیز با نانوذرات آمیخته کردند و کاهش قابل توجه‌ای در میزان سایش آنها مشاهده شد. پس از بررسی نتایج آزمایشات، دانشمندان در تلاش هستند تا مکانیسم دقیقی برای پدیده سایش ارایه نمایند.

نتایج تحقیقات سایر بر روی سایش پلیمرها، فلزات و سرامیک‌ها در گردهمایی بین‌المللی ای وی اس در ناشویلا منتشر خواهد شد.