معرفی پتنت هفته: روکش‌های نانوساختار

این اختراع به معرفی و روش تولید روکش‌های نانوساختار برای بهبود چسبندگی به مواد می‌پردازد و هدف آن تولید یک محصول چند لایه‌ای نازک با نشاندن روکش‌هایی با سطح زبر روی یک زیرلایه و روش تولید این محصول می‌باشد.
چسبندگی لایه‌های سطحی به زیرلایه‌ها از اهمیت زیادی برخوردار است. به همین دلیل برای افزایش چسبندگی لایه‌های نازک، سطح تماس این لایه‌ها را با زیرلایه با فرآیندی مانند حکاکی زبر می‌کنند. این فرآیند برای فیلم‌های بسیار نازک مشکل است و ممکن است به لایه صدمه بزند و علاوه بر این مشکلات زیست محیطی نیز به همراه دارد. اما در این اختراع، با روش رسوب‌دهی گرمایی متمرکز (CHD) یک لایه بسیار نازک مسی با تخلخل و ناهمواری بسیار کم بر روی یک زیرلایه موقت مسطح آلومینیومی می‌نشانند، به طوری که سطح در تماس با آلومینیوم کاملاً صاف و هموار و سطح در معرض دید زیر و متخلخل باشد. از طرف دیگر سطح لایه مس مجاور زیر لایه موقت کاملاً هموار و مطابق زیر لایه است و دارای استحکام کمی در برابر پوسته شدن است. لذا پس از اتصال طرف مقابل و زبرلایه مسی به زیرلایه اصلی که معمولاً یک ماده دی‌الکتریک است، می‌توان لایه آلومینیومی را از لایه مسی جد کرد. بدین ترتیب سطحی بسیار هموار با چسبندگی عالی به وجود می‌آید.

کاربرد :
این لایه‌های نازک در صنایع الکتریکی جهت تولید ICها و بُردهای مدارهای چاپی و پوشش‌های EMF بکار می‌روند.
مزایا :
فیلم‌های به دست آمده با این روش به واسطه نفوذ و تماس سطح زبر آنها با زیرلایه اصلی از چسبندگی بسیار خوبی برخوردارند.